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國立臺灣大學 應用力學研究所 陳建彰所指導 王競的 快速大氣噴射電漿奈米孔隙氧化錫及二氧化鈦/奈米碳管之複材製程開發:應用於染料敏化太陽能電池 (2014),提出sol 安全帽關鍵因素是什麼,來自於大氣電漿、氧化錫、染料敏化太陽能電池、奈米碳管。

而第二篇論文逢甲大學 化學工程學所 林永森所指導 賴振儀的 低溫電漿聚合可撓式電致色變元件之電致色變氧化鉬研究 (2007),提出因為有 電致色變、氧化鉬、電將聚合的重點而找出了 sol 安全帽的解答。

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快速大氣噴射電漿奈米孔隙氧化錫及二氧化鈦/奈米碳管之複材製程開發:應用於染料敏化太陽能電池

為了解決sol 安全帽的問題,作者王競 這樣論述:

本研究利用噴射式大氣電漿(Atmospheric pressure plasma jet,APPJ)進行薄膜材料快速熱退火以及奈米氧化物燒結製程。本論文內容包含兩大部分,第一部分為利用大氣噴射電漿快速熱退火多孔隙氧化錫;第二部分利用大氣噴射電漿燒結製備染料敏化太陽能電池的二氧化鈦光電極以及二氧化鈦/奈米碳管對電極,用以取代昂貴的金屬鉑(Pt)對電極,並與傳統爐管退火製程的電池作比較。 實驗一利用大氣噴射氮氣電漿燒結處理奈米多孔隙(nanoporous)氧化錫(Tin oxide,SnO2)薄膜,進行氧化錫薄膜的燒結退火製程,比起傳統爐管退火大幅降低了熱處理時間以及熱預算,達到製程上節省成本

以及縮短製程時間的目的。本實驗探討大氣電漿燒結時間對多孔隙氧化錫薄膜的影響,發現隨APPJ處理時間的增加,SnO2薄膜的可見光吸收邊緣(absorption edge)先減少後增加;光學能隙先減少後增加;導電率先增加後減少;而活化能則是先減少後增加。APPJ處理時間可以用為調變SnO2材料性質的參數,合適的APPJ處理時間才會使SnO2材料適合某些用途。此處的SnO2薄膜是以網印法(Screening printing)製備,網印法搭配大氣噴射電漿製程適用於卷軸式製程(Roll-to-roll process),且製備的多孔隙氧化錫薄膜具有高比表面積(Surface-to-volume rat

io),使其可運用於氣體感測器和化學催化劑上。 實驗二為利用大氣噴射電漿快速燒結二氧化鈦光電極和二氧化鈦/奈米碳管對電極,並研究電漿燒結處理時間對二氧化鈦/奈米碳管對電極材料性質及所組裝染料敏化太陽能電池的影響。由掃描式電子顯微鏡可發現,APPJ對二氧化鈦/奈米碳管的反應十分劇烈,APPJ燒結時間到達15秒以上時,FTO玻璃上的奈米碳管幾乎完全和電漿反應並且被移除。相較之下,經爐管退火燒結相同時間的樣本則仍且有大量的奈米碳管。由此結果可以得知奈米碳管的快速反應為熱和電漿協同作用所造成。此對電極在染秒敏化太陽能電池的應用上,最佳對電極製程參數為5秒的APPJ燒結時間,太陽能電池光電轉換效率達5

.65%,和未經處理之二氧化鈦/奈米碳管對電極的光電轉換效率2.19%相比,效率提升了158%,已接近傳統鉑(Pt)對電極的太陽能電池效率6.91%但是大氣噴射電漿對於奈米碳管對電極燒結處裡的製程,製程成本較鉑對電極低廉,且製程時間相對快速,所需之熱預算較低,單位面積所需能量只約傳統爐管製程的五分之一,具有高度發展的潛力。

低溫電漿聚合可撓式電致色變元件之電致色變氧化鉬研究

為了解決sol 安全帽的問題,作者賴振儀 這樣論述:

電致色變(Electrochromism,EC)的應用在近年來已受到廣泛的注意,產、學界致力之研究重點,其可撓式電致色變元件在應用上有低驅動電壓、較短之響應時間、具有記憶性、無視角問題等優點,在使用上可達到濾光、明暗控制與節約能源的目的。而塑膠導電基材則具有輕、薄、耐衝擊、可撓曲及生產成本低(可使用roll to roll的捲筒生產)等優勢,在未來發展中相當有淺力。而電漿聚合法不僅沉積速率快,並且能在室溫下進行反應,能配合可撓式基材在低溫下沉積電致色變薄膜。故本研究利用電漿聚合(plasma polymerization )方式,製備可撓式陰極電致色變薄膜三氧化鉬(MoO3)於PET/ITO

塑膠基板上,以循環伏安儀測試與階梯電位分析在定電壓的條件下探討氧化鉬(Molybdenum-oxide)薄膜充放電的電流與所施予電壓之關係,並以紫外線可見光譜儀(UV)進行光學性質分析。實驗結果顯示當空氣通入量為17.6sccm、Ar氣通入量為4sccm時、操作功率250W、鍍膜時間8分鐘時,有較佳的穿透率變化可達65%(在550 nm),在可見光區光學密度差(ΔOD)為0. 63。利用冷場發射掃描式電子顯微鏡及能量散佈光譜儀(FESEM)分析氧化鉬膜之表面型態及膜厚。隨著氧氣含量的減少、操作功率的增加及沉積時間的增加,使氧化鉬膜厚約350~400nm之間。利用X射線光電子能譜儀(X-ray

Photoelectron Spectroscope, XPS)來分析氧化鉬薄膜中鉬的含量及其化學組成。