光源企業評價的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列包括價格和評價等資訊懶人包

矽谷簡報女王用數據說出好故事

為了解決光源企業評價的問題，作者NancyDuarte 這樣論述：

想在數據當道的商業世界成功提案 ──你得讓數字開口「說故事」── ★矽谷最有說服力的女人 : 南西．杜爾特★ 專為職場人士打造的必勝簡報密技 　　大數據時代，所有決策離不開數據。但數據不會說話，多少次看到滿滿數字的簡報現場，你發呆放空、昏昏欲睡，聽完後還不確定提案者的訴求到底是什麼？ 　　「財星500強」簡報大師──南希·杜爾特，破天荒分析「跨行業、跨國界」頂尖數據簡報，總結「用數據說故事」創建過程與技巧，破解你「數據簡報≠視覺化簡報」的迷思，讓每次提案成功達陣、贏得商業先機！ 　　「數據」可以指引決策者，識別商業問題或機會。要知道，你從數據中洞察到的資訊，可以為他人、團隊、企業理解

今天必須採取的行動，或逆轉、改善未來的軌跡。即使商業決策都依賴數據，但「良好的溝通」卻是使用數據者的「最高技能差距」。亦即，使用數據越厲害的人，通常溝通能力非常差。這正是本書誕生的原因。 　　定義數據觀點→內化故事情節→凸顯數字簡報 　　讓職場簡報與提案無往不利！   　　》四大重點教學： 　　1.    抓出數據觀點：數據不會說話，必須由「人」決定「數據觀點」，利用簡單的「3個支撐點的決策樹」架構，一次搞定假設、論點、結論。 　　2.    認識簡報格式：大家都以為簡報就是PPT軟體，大錯特錯！面對不同的場合、溝通者，簡報格式就要跟著換，讓聽的人立馬抓住重點。 　　3.    認識各種圖

表：告別雜七雜八的圖表，只要依循簡報格式，理解人類的「閱讀動線」，好的數據圖表一張就夠。 　　4.    善用眾所皆知的譬喻來衡量你的數據，再帶入「3幕劇架構」來調整簡報順序，讓簡報故事化，有節奏的帶領觀眾到你的目的地。   　　數據溝通一點都不難，不管是把數據「人性化」處理、製作出符合主管閱讀或聆聽的簡報格式、提出自己的數據觀點、掌握溝通數據的語言與架構……，這本通通搞定。無論提報對象是決策者、同事下屬、利害關係人、顧客，都能逐一擊破，成功提案。 　　》看完後你將學會： 　　●數據就是數字而已，真的有必要把「故事」融入簡報中？→第4章 　　「說故事」是人腦處理資訊的最佳方式，只要應用「3

幕劇結構」搭配上你的「數字演變」，就可以將故事力量注入數據中。 　　●數據既然是統計、演算結果，為何不能直接展示這些數字→第5章 　　數據不會說話，你必須從數據中找到「目的、方法、訴求」來說服他人，這才是商業世界所謂的「數據觀點」。 　　●主管想先看提案，是要給他投影片還是文件檔呢？→第8章 　　投影片追求精簡，文字檔講究詳盡，這時到底該提供漂亮卻資訊量不足的投影片，還是詳盡但篇幅繁雜不好閱讀的文件，其實你有「視覺文件檔」這個好選擇。 　　●專業數據如何表達得讓大家都聽得懂？→第8章 　　數據只要過大或過小，甚至不常用的度量衡，聽眾就很難理解，因此簡報者傳達數字規模的「感受」，就是簡報是否得人

心的關鍵要素。 　　●如果簡報是傳遞壞消息，如何才能激勵人心？→第11章 　　商業簡報不只用來傳達好消息，也參雜壞消息。遇到布達壞結果的情況，你更應該用「說故事」的方式溝通，才能得到認同，讓大家一同面對。 本書特色 　　1. 其他簡報書少見，總結、分析世界頂尖企業的數據投影片：作者團隊網羅世界知名品牌企業簡報，包括顧問、消費、技術、金融、醫療等產業，按圖表的種類，特別是按與數據有關的用詞來分類投影片，得出數據呈現與報告的最佳方式。 　　2.「職場簡報」必備案頭書：本書先從聽眾、決策者下手，分析他們想聽什麼、在乎什麼，並說明不同場合，該提供哪種簡報文件。讓你打破簡報迷思，做簡報前，先成為「

懂溝通」的人。 　　3. 一張圖，就能挖掘數據的問題與機會：作者利用大家熟悉的「3個支撐點的決策樹」，設計用一張圖就能搞定從「整理數據資料」、「編輯數據故事」、「提出數據假設」，到最後「給出數據建議」的簡報術。 　　4. 學會怎樣「設計」簡報，「說」出你的建議：從各大頂尖企業總結出的結果，作者團隊找出如何「說」出建議的重要關鍵字，再加上經過強調、動線設計後簡報投影片，不但能吸引讀者一秒看到關鍵數字，還能跟著你的用字進入故事的高潮起伏。 　　5. 完整、長篇呈現簡報案例：一場好的簡報，由如聽了一則精彩的故事。作者巧妙利用5場絕佳的簡報，讓你融會貫通之前傳授的簡報技巧，理解數據簡報可以如何運

用與呈現。 　　※書中附上QR CODE連結，可以連結到作者的課外資料、以及2場簡報過程。 專業推薦（依姓氏筆畫排列） 　　RainDog雨狗／簡報奉行創辦人 　　王永福／頂尖企業簡報顧問 　　珍妮佛．艾克／史丹佛大學商學院教授 　　傑瑞米．懷特／IBM iX數位網絡客戶長 　　楊斯棓／醫師、《人生路引》作者 　　蒂芬妮．波瓦／Salesforce的成長創新傳道人 　　劉奕酉／職人簡報與商業思維專家 國際好評 　　「當前行業的許多破壞式創新，都是數據促成的。把數據與說故事相結合，你的領導力將如虎添翼。」──李夏琳（Charlene Li），《破壞心態》（The Disruption

Mindset）和紐約時報暢銷書《開放式領導》（Open Leadership）作者 　　「對於工作離不開數據，又努力想化解研究和解釋數據間的鴻溝，那本書正是你的路線圖。」──柴克．吉米納尼（Zach Gemignani），精髓分析公司（Juice Analytics）執行長，《數據暢流》（Data Fluency）作者 　　「杜爾特意識到人類愛聽故事，就連處理數據也不例外。杜爾特一如既往，在本書中用她無可比擬的方式教導、啟發讀者。」──史考特．貝里納托（Scott Berinato），《哈佛教你做出好圖表》（Good Charts）、《哈佛教你做出好圖表練習手冊》（Good Charts

Workbook）作者 　　在這個數據不堪負荷的時代，要說出吸引人的數據故事很難。杜爾特卻出色、有意義地幫助我們與觀眾建立聯繫。對於想改變數據故事的商業講者來說，這是一本必讀之作。──傑瑞米．懷特（Jeremy Waite），IBM iX 數位網絡部門首席客戶長 　　科技技術創造了前所未有的數據產出速度。數據以故事形式交流，可以賦予意義，意義驅動行動。──珍妮佛．艾克（Aaker Jennifer），史丹佛大學商學院教授  

計算光刻與版圖優化

為了解決光源企業評價的問題，作者韋亞一 這樣論述：

光刻是積體電路製造的核心技術，光刻工藝成本已經超出積體電路製造總成本的三分之一。在積體電路製造的諸多工藝單元中，只有光刻工藝可以在矽片上產生圖形，從而完成器件和電路三維結構的製造。   計算光刻被公認為是一種可以進一步提高光刻成像品質和工藝視窗的有效手段。基於光刻成像模型，計算光刻不僅可以對光源的照明方式做優化，對掩模上圖形的形狀和尺寸做修正，還可以從工藝難度的角度對設計版圖提出修改意見，最終保證光刻工藝有足夠的解析度和工藝窗口。   本書共7章，首先對積體電路設計與製造的流程做簡要介紹，接著介紹積體電路物理設計（版圖設計）的全流程，然後介紹光刻模型、解析度增強技術、刻蝕效應修正、可製造性設計

，最後介紹設計與工藝協同優化。 　　 《計算光刻與版圖優化》內容緊扣先進技術節點積體電路製造的實際情況，涵蓋計算光刻與版圖優化的發展狀態和未來趨勢，系統介紹了計算光刻與刻蝕的理論，論述了版圖設計與製造工藝的關係，以及版圖設計對製造良率的影響，講述和討論了版圖設計與製造工藝協同優化的概念和方法論，並結合具體實施案例介紹了業界的具體做法。本書不僅適合積體電路設計與製造領域的從業者閱讀，而且適合高等院校微電子相關專業的本科生、研究生閱讀和參考。 ​韋亞一博士，中國科學院微電子研究所研究員，中國科學院大學微電子學院教授，博士生導師。1998年畢業於德國Stuttgart大學/馬普固

體研究所，師從諾貝爾物理獎獲得者馮・克利津（Klaus von Klitzing），獲博士學位。韋亞一博士長期從事半導體光刻設備、材料、軟體和制程研發，取得了多項核心技術，發表了超過90篇的專業文獻。韋亞一博士在中國科學院微電子研究所創立了計算光刻研發中心，從事20nm以下技術節點的計算光刻技術研究，其研究成果被廣泛應用於國內FinFET和3D NAND的量產工藝中。 　　 粟雅娟博士，中國科學院微電子研究所研究員，碩士生導師。2005年畢業於清華大學，獲博士學位。粟雅娟博士主要從事設計工藝協同優化、計算光刻等領域的研究。發表SCI/EI學術論文30餘篇，申請專利10餘項。其研究成果被應用於國

內設計和製造企業的設計工藝協同優化中。 　　 董立松博士，中國科學院微電子研究所副研究員，碩士生導師。2014年畢業於北京理工大學，獲博士學位。董立松博士主要從事光刻成像理論、解析度增強、SMO、OPC等技術的研究工作。發表SCI/EI學術論文30餘篇，申請專利10餘項。 　　 張利斌博士，中國科學院微電子研究所副研究員，碩士生導師。2014年畢業於中國科學院大學(中國科學院半導體研究所)，獲工學博士學位。主要從事光刻工藝和測量的表徵和建模等研究工作。共發表學術論文40餘篇，申請專利10餘項。 　　 陳睿博士，中國科學院微電子研究所副研究員，碩士生導師。 2015年畢業於美國紐約州立大學布法羅

分校，獲博士學位。陳睿博士主要從事先進技術節點光刻工藝、刻蝕與沉積工藝模擬等領域的研究。發表SCI/EI學術論文30餘篇，申請專利20餘項。研究成果被應用於國內外先進製造企業的工藝研發和生產中。 　　 趙利俊博士，2018年畢業於中國科學院微電子研究所獲工學博士學位，同年加入長江存儲。博士及工作期間主要從事SMO、OPC及數位元電路物理設計等工作。發表學術論文8篇，申請專利5項。 第1章 概述 1 1．1 積體電路的設計流程和設計工具 3 1．1．1 積體電路的設計流程 3 1．1．2 設計工具（EDA tools） 5 1．1．3 設計方法介紹 7 1．2 積體電路製造流

程 9 1．3 可製造性檢查與設計製造協同優化 19 1．3．1 可製造性檢查（DFM） 20 1．3．2 設計與製造技術協同優化（DTCO） 20 本章參考文獻 21 第2章 積體電路物理設計 22 2．1 設計導入 23 2．1．1 工藝設計套件的組成 23 2．1．2 標準單元 24 2．1．3 設計導入流程 25 2．1．4 標準單元類型選取及IP清單 26 2．2 布圖與電源規劃 26 2．2．1 晶片面積規劃 26 2．2．2 電源網路設計 27 2．2．3 SRAM、IP、埠分佈 28 2．2．4 低功耗設計與通用功耗格式導入 28 2．3 佈局 30 2．3．1 模組約束類型

30 2．3．2 擁塞 31 2．3．3 圖形密度 32 2．3．4 庫交換格式優化 32 2．3．5 鎖存器的位置分佈 33 2．3．6 有用時鐘偏差的使用 33 2．4 時鐘樹綜合 35 2．4．1 CTS Specification介紹 35 2．4．2 時鐘樹級數 35 2．4．3 時鐘樹單元選取及分佈控制 36 2．4．4 時鐘樹的生成及優化 36 2．5 佈線 36 2．5．1 非常規的設計規則 36 2．5．2 遮罩 37 2．5．3 天線效應 37 2．6 簽核 39 2．6．1 靜態時序分析 39 2．6．2 功耗 44 2．6．3 物理驗證 45 本章參考文獻 47 第

3章 光刻模型 48 3．1 基本的光學成像理論 48 3．1．1 經典衍射理論 48 3．1．2 阿貝成像理論 53 3．2 光刻光學成像理論 54 3．2．1 光刻系統的光學特徵 54 3．2．2 光刻成像理論 67 3．3 光刻膠模型 74 3．3．1 光刻膠閾值模型 74 3．3．2 光刻膠物理模型 75 3．4 光刻光學成像的評價指標 77 3．4．1 關鍵尺寸及其均勻性 77 3．4．2 對比度和圖像對數斜率 78 3．4．3 掩模誤差增強因數 79 3．4．4 焦深與工藝窗口 80 3．4．5 工藝變化帶（PV-band） 82 本章參考文獻 82 第4章 解析度增強技術 84

4．1 傳統解析度增強技術 86 4．1．1 離軸照明 86 4．1．2 相移掩模 89 4．2 多重圖形技術 92 4．2．1 雙重及多重光刻技術 93 4．2．2 自對準雙重及多重圖形成像技術 99 4．2．3 裁剪技術 104 4．3 光學鄰近效應修正技術 107 4．3．1 RB-OPC和MB-OPC 108 4．3．2 亞分辨輔助圖形添加 109 4．3．3 逆向光刻技術 110 4．3．4 OPC技術的產業化應用 113 4．4 光源?掩模聯合優化技術 117 4．4．1 SMO技術的發展歷史與基本原理 117 4．4．2 SMO技術的產業化應用 119 本章參考文獻 123

第5章 刻蝕效應修正 125 5．1 刻蝕效應修正流程 126 5．2 基於規則的刻蝕效應修正 128 5．2．1 基於規則的刻蝕效應修正的方法 128 5．2．2 基於規則的刻蝕效應修正的局限性 129 5．3 基於模型的刻蝕效應修正 132 5．3．1 刻蝕工藝建模 132 5．3．2 基於模型的刻蝕效應修正概述 134 5．3．3 刻蝕模型的局限性 135 5．4 EPC修正策略 136 5．5 非傳統的刻蝕效應修正流程 139 5．5．1 新的MBRT刻蝕效應修正流程 139 5．5．2 刻蝕效應修正和光刻解決方案的共優化 139 5．6 基於機器學習的刻蝕效應修正 140 5．6．1

基於人工神經網路的刻蝕偏差預測 140 5．6．2 刻蝕鄰近效應修正演算法 141 5．6．3 基於機器學習的刻蝕偏差預測模型案例 142 本章參考文獻 143 第6章 可製造性設計 145 6．1 DFM的內涵和外延 145 6．1．1 DFM的內涵 145 6．1．2 DFM的外延 148 6．2 增強版圖的健壯性 149 6．2．1 關鍵區域圖形分析（CAA） 149 6．2．2 增大接觸的可靠性 150 6．2．3 減少柵極長度和寬度變化對器件性能的影響 151 6．2．4 版圖健壯性的計分模型 152 6．3 與光刻工藝關聯的DFM 153 6．3．1 使用工藝變化的頻寬（PV-

band）來評估版圖的可製造性 153 6．3．2 使用聚集深度來評估版圖的可製造性 155 6．3．3 光刻壞點的計分系統（scoring system） 157 6．3．4 對光刻工藝友好的設計 160 6．3．5 版圖與掩模一體化模擬 161 6．4 與CMP工藝關聯的DFM 162 6．4．1 CMP的工藝缺陷及其模擬 162 6．4．2 對CMP工藝友好的版圖設計 164 6．4．3 填充冗餘金屬（dummy fill） 165 6．4．4 回避困難圖形 165 6．5 DFM的發展及其與設計流程的結合 166 6．5．1 全工藝流程的DFM 166 6．5．2 DFM工具及其與設計

流程的結合 168 6．6 提高器件可靠性的設計（DFR） 170 6．6．1 與器件性能相關的DFR 170 6．6．2 與銅互連相關的DFR 172 6．7 基於設計的測量與DFM結果的驗證 172 6．7．1 基於設計的測量（DBM） 172 6．7．2 DFM規則有效性的評估 174 本章參考文獻 174 第7章 設計與工藝協同優化 177 7．1 工藝流程建立過程中的DTCO 178 7．1．1 不同技術節點DTCO的演進 178 7．1．2 器件結構探索 181 7．1．3 設計規則優化 183 7．1．4 面向標準單元庫的DTCO 194 7．2 設計過程中的DTCO 201

7．2．1 考慮設計和工藝相關性的物理設計方法 201 7．2．2 考慮佈線的DTCO 205 7．2．3 流片之前的DTCO 213 7．3 基於版圖的良率分析及壞點檢測的DTCO 216 7．3．1 影響良率的關鍵圖形的檢測 217 7．3．2 基於版圖的壞點檢測 222 本章參考文獻 226 附錄A 專業詞語檢索 229  

從台灣茶飲市場探討企業識別標準色對品牌定位之傳遞效果

為了解決光源企業評價的問題，作者謝宛玲 這樣論述：

企業識別是企業或品牌傳遞訊息給消費者的一種手段。當中，理念識別扮演最高的決策層次，因為它包含了定位。在有了理念（定位）後，企業便需要將這個訊息傳遞出去的工具—視覺識別，其中又以標準色影響消費者最為快速，有研究指出，色彩會透過聯想操作消費者心中的想法。本研究透過網路問卷，以集群變異數分析了解521位消費者對13種茶飲品牌標準色產生的知覺與意圖，並使用卡方檢定檢視產品類別、品牌知名度對其影響的干擾，運用多元尺度法進行知覺定位分析。本研究結果發現：（一）標準色會為消費者知覺中的「味覺預期」、「知覺品質」、「知覺價格」，以及消費者意圖的「購買意願」帶來顯著影響。在「味覺預期」、「知覺品質」、「購買意

願」的影響中，依照特性可將標準色分為四個不同的集群；在「知覺價格」的影響中，「貴」的知覺將標準色分為五個集群，「便宜」的知覺則將標準色分為四個集群。（二）標準色對消費者知覺、意圖的影響，會因為品牌知名度與產品類別（紅茶、綠茶、青茶、奶茶）有所不同。在高知名度品牌中，產品類別與「味覺預期」中的「鮮爽」、「甜」、「澀」，「知覺價格」中的「貴」、「便宜」，以及「購買意願」部分樣本呈現顯著差異；在低知名度品牌裡，產品類別與「味覺預期」中的「鮮爽」、「甜」、「知覺品質」，以及「購買意願」部分樣本呈現顯著差異。（三）從知覺圖中可以發現，標準色的確會為企業、品牌帶來定位的效果。其中，在高知名度茶飲品牌中，具

「鮮爽」知覺定位的標準色，會使消費者有較高「購買意願」；在低知名度茶飲品牌裡，則是具「品質」、「貴」知覺定位的標準色，會使消費者有較高「購買意願」。而無論是何種知名度，具「甜」、「便宜」知覺的標準色，往往被定位在同一範圍內。本研究結果補足了過去研究僅就識別系統的單一項探討、提供跨領域的整體概念進行研究分析，在實務方面可提供業者在制定企業標準色時，應依照定位選用的參考依據。