壓力換算torr的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列包括價格和評價等資訊懶人包

導電性超奈米微晶鑽石薄膜之製備與用於多巴胺感測之研究

為了解決壓力換算torr的問題，作者江佩玲 這樣論述：

人體中不正常的多巴胺含量與某些疾病息息相關，傳統多巴胺的感測常面臨干擾物和生物膜汙染等問題而失準。本研究以偏壓輔助化學氣相沉積法製備導電性超奈米微晶鑽石(nitrogen-incorporated ultrananocrystalline diamond, NUNCD)薄膜，其方法為在氮氣電漿下，以電漿功率1400 W、基板偏壓-300 V、腔體壓力50 torr的條件成長一小時，所得的NUNCD之電阻率約為63.15 μΩ·cm。接著我們使用此NUNCD做為工作電極，以電化學的方式對多巴胺進行感測，偵測極限可以達到0.32 μM。即使在具有氧化電位相近的干擾物（抗壞血酸及尿酸）環境下，偵測

極限依然不受影響。在胎牛血清中，NUNCD對多巴胺的偵測亦能得到良好的線性區間，偵測極限為0.39 μM，僅略差於在磷酸鹽緩衝溶液中的量測值。最後建立多巴胺峰值電流對濃度的檢量線，並實際將微分脈衝伏安法量測所得的電流值，帶入檢量線中，換算待測物所含的多巴胺濃度，將其與實際加入的多巴胺濃度做比較，得到約90-120%的回收率(recovery)，顯示本研究所製備的NUNCD電極對多巴胺的感測有相當的可行性。

以反應濺鍍法製備氧化鋅薄膜及其摻雜研究

為了解決壓力換算torr的問題，作者陳巧欣 這樣論述：

氧化鋅薄膜具有可與氧化銦錫(ITO)薄膜相比擬的電學與光學特性，因此本研究利用射頻反應式共焦磁控濺鍍(RF reactive magnetron co-sputtering)，成長氧化鋅薄膜，控制不同的工作氣氛與功率尋求最佳鍍膜參數，並用XRD及SEM對其晶體結構作探討，此外再以穿透光譜儀其光性進行研究了解和分析。 主要是藉由膜厚變化來探討ZnO薄膜之成長機制，在反應濺鍍的環境中，氧分壓主導著沉積速率。經膜厚曲線圖分析，可觀察到當Zn功率為50W時，ZnO最高厚度的氧分壓為4E-4 torr，找出此參數以利於在富鋅的氣氛下摻入氮、在富氧的氣氛下摻銅，好讓氮可以順利取代氧、銅可以成功取代

鋅。 由SEM圖可看出隨著氧分壓提升，其ZnO的米粒狀結構更加明顯，表面也趨於平坦；當氧分壓過高時，米粒狀結構消失，會有柱狀沉積物產生。XRD也因為氧分壓的提高，使得(101)面受壓制，越傾向於(002)面。從穿透光譜儀也可知道ZnO的穿透率皆&;gt;90%，而換算其band gap約為3.1~3.2eV，皆在正常範圍內。 找出富鋅和富氧的條件後分別摻入氮和銅，利用霍爾量測儀、熱點探針以及X射線光電子能譜可以明顯觀察出其電性。由霍爾可以清楚看出其主要載子濃度為電子或是電動(即n-type或是p-type)，當摻入薄膜內的氮分壓為8E- torr以上時，會顯示出p-type的形式；

而在摻入銅時，不論功率多少，只要有摻進微量的銅，都可以使得氧化鋅薄膜有p-type的趨勢。而熱探針由於試片電阻過高，所以量測出來的數據可能不盡準確，最後也藉由XPS來決定出氮氣是否成功佔據氧的空位以及銅是否順利取代鋅的空位。