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逢甲大學 光電能源與視覺科技碩士在職專班 田春林、陳徳請所指導 林漢傑的 抗藍光眼鏡片鍍膜設計與量測系統開發 （2015），提出多層 膜鏡片 原理關鍵因素是什麼，來自於抗藍光、多層膜設計、眼鏡片、光檢知器、濾波器。
而第二篇論文國立虎尾科技大學 光電與材料科技研究所 謝振榆所指導 王貞凱的 提升UV集光罩於曝光機效能之研究 （2013），提出因為有 光學薄膜、多層膜、高反射、曝光機的重點而找出了 多層 膜鏡片 原理的解答。
抗藍光眼鏡片鍍膜設計與量測系統開發
為了解決多層 膜鏡片 原理 的問題，作者林漢傑 這樣論述：
本論文為抗藍光鏡片多層膜設計與量測系統開發之研究，利用紫外光/可見光譜儀量測市面上的抗藍光鏡片與評估其性能，使用Macleod光學薄膜設計軟體進行抗藍光及紫外光眼鏡片多層膜模擬設計，設計上選用(MgF2/TiO2)xMgF2與(SiO2/Ta2O5)xSiO2進行兩種多層膜設計與市售抗藍光鏡片比較，基板為BK7玻璃進行多層膜模擬設計，結構以非1/4波長膜厚進行15層與23層薄膜設計，結果顯示(MgF2 /TiO2)11 MgF2 多層膜設計可達成市面上抗紫外線波段的需求。抗藍光鏡片之光電量測系統使用光檢知器使用波長區域在400nm~700nm，即可見光至近紅外線範圍。量測系統主要由發射電路、
接收電路與信號處理電路三個單元組成。系統開發完成之後使用波長470 nm藍光LED對抗藍光眼鏡鏡片進行穿透率量測，此系統可做為驗證抗藍光眼鏡鏡片的抗藍光效果。
提升UV集光罩於曝光機效能之研究
為了解決多層 膜鏡片 原理 的問題，作者王貞凱 這樣論述：
本研究係以物理氣相沈積法-電子槍蒸鍍/PVD-EBGE (Physical Vapor Deposition-Electron Beam Gun Evaporation)，來製作由ZrO2/SiO2所組合的紫外線(UV)反射膜，探討多層膜UV反射膜的光學特性、集光罩表面粗糙度，藉以求得最佳之製程參數，製作出高品質的UV集光罩，以利UV曝光機相關產業的應用。經由反覆測試與實驗，做出多層膜UV集光罩，量測結果分析與探討，不僅在曝光機的主要工作波段350 ~ 450 nm有超過95%的反射率，紅外線熱源的部份也有90%以上的穿透，有效降低光源照射在工件上的溫度，光學特性已達曝光機應用產業的標準，上
機實測表現達到小於熱衝擊指標的250 ℃以內，UV集光罩的品質與穩定性已可與目前市場上主流之日本原裝進口品相比擬，有助於台灣曝光機產業在光學元件購置成本上降低至少35%，提升產業競爭力。