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拋光原理的問題,我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍,推薦朱海(主編)寫的 先進陶瓷成型及加工技術 和程灝波的 流體輔助微納拋光原理與技術都 可以從中找到所需的評價。

另外網站高精密平面研磨拋光機原理與特點|機械技術 - Coccad.com也說明:高精密平面研磨拋光機原理與特點,.研磨拋光機,有非常多的種類的,包括有:振動研磨拋光機,磁力研磨拋光機,平面研磨拋光機,高精密平面研磨拋光機等等。

這兩本書分別來自化學工業 和科學所出版 。

國立高雄科技大學 光電工程研究所 高宗達所指導 張豐銘的 具鉀離子選擇性表面增強拉曼散射基板之研究 (2021),提出拋光原理關鍵因素是什麼,來自於陽極氧化鋁、表面增強拉曼散射、銀樹枝狀、多孔性、電鍍、鉀離子。

而第二篇論文國立高雄科技大學 光電工程研究所 高宗達所指導 蔡濬謙的 陽極氧化鋁薄膜為反應介面沉積奈米銀製SERS基板 (2020),提出因為有 陽極氧化鋁、降電流、熱退火、表面增強拉曼散射、奈米銀的重點而找出了 拋光原理的解答。

最後網站常用的抛光方法及工作原理 - 知乎专栏則補充:电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分,使 ... 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了拋光原理,大家也想知道這些:

先進陶瓷成型及加工技術

為了解決拋光原理的問題,作者朱海(主編) 這樣論述:

本書較全面地闡述了陶瓷材料成型及加工技術中的基礎理論知識,注重新概念、新理論、常見成型工藝、方法和應用。以先進陶瓷材料的制備和加工技術為主線組織內容體系,首先概述了先進陶瓷的發展歷史和應用,然后在系統介紹了先進陶瓷的粉體制備、燒結的原理及工藝基礎上,重點介紹了先進陶瓷的成型及后續加工等方面的工藝和相關技術,其中包括大量國內外先進陶瓷研究的最新成果。全書內容豐富、實用性強,可供廣大從事無機非金屬材料、陶瓷成型、陶瓷加工工藝等相關專業的高等學校師生參考學習,也可以作為從事陶瓷等硬脆材料成型加工生產、應用、開發和設備設計維修的高、中級技術人員實際生產操作中重要的技術參考資料。朱海,東北林業大學,教授

,碩士生導師,現主要從事材料成型與過程控制方面的科研與教學工作,其研究主要涉及工程材料的成型與加工技術,特別是對復合材料、無機陶瓷材料等方面的成型加工技術有較豐富的理論與實際操作經驗。曾任中國焊接學會摩擦焊分委員會委員、秘書。現任東北林業大學,機電工程學院教學實驗中心主任,黑龍江省互換性研究會理事,黑龍江省金工研究會理事,機械制造基礎精品課負責人。主持並參加了機械工業部發展基金項目、黑龍江省科技公關項目、黑龍江省教育廳新世紀高等教育教學改革工程項目等多項課題的研究工作。獲機械工業部科技進步二等獎一項,黑龍江省教育成果二等獎一項,哈爾濱市自然科學技術成果獎一項,中國林業教育學會高、中等院校林(農

)類教材一等獎一項,東北林業大學教學成果一等獎二項。獲得實用新型專利3項。 第1章 概述1.1傳統陶瓷與先進陶瓷11.1.1陶瓷的概念及分類11.1.2傳統陶瓷31.1.3先進陶瓷51.2先進陶瓷簡介91.2.1先進陶瓷分類91.2.2先進陶瓷材料簡介111.3先進陶瓷制備工藝過程161.3.1現代材料制備工藝過程特點161.3.2傳統陶瓷材料制備工藝簡介161.3.3先進陶瓷材料制備工藝特點171.3.4先進陶瓷材料制備工藝過程18參考文獻20第2章 先進陶瓷粉體的性能表征及制備技術2.1先進陶瓷粉體應有的特性222.2先進陶瓷粉體的性能及表征242.2.1粉體顆粒的概念

242.2.2粉體顆粒的粒度及尺寸252.2.3粉體顆粒的粒度分布272.2.4粉體粒度測定方法282.2.5顆粒形貌結構分析方法332.2.6顆粒成分分析方法352.2.7粉體顆粒晶態的表征362.3先進陶瓷粉體的制備方法392.3.1粉碎法402.3.2固相合成法442.3.3液相合成法482.3.4氣相合成法56參考文獻63第3章 先進陶瓷成型方法3.1先進陶瓷成型方法的分類643.2壓制成型方法663.2.1干法壓制成型法673.2.2等靜壓成型法793.3可塑成型方法903.3.1擠壓成型法903.3.2軋膜成型法973.3.3注射成型法1033.4漿料成型方法1103.4.1注漿成

型法1113.4.2注凝成型法1193.4.3熱壓鑄成型法1223.4.4流延成型法1283.5其他成型方法1323.5.1壓濾成型法1323.5.2直接凝固注模成型法1373.5.3電泳沉積成型法1403.5.4離心沉積成型法1413.5.5固體無模成型法144參考文獻148第4章 先進陶瓷燒結機理及燒結方法4.1燒結機理1504.1.1燒結定義1504.1.2與燒結有關的概念1524.1.3燒結過程推動力1534.1.4燒結過程中的物質傳遞1544.2燒結工藝1624.2.1影響燒結的因素1624.2.2燒結方法168參考文獻178第5章 先進陶瓷的切削加工技術5.1先進陶瓷材料的切削特性

1805.1.1刀具磨損1805.1.2切削力1815.1.3切削溫度1815.1.4切削參數1815.2可切削陶瓷材料的切削特性1825.2.1刀具磨損1825.2.2切削力1845.2.3切削表面1845.3可切削陶瓷材料的車削加工1855.3.1刀具材料和角度1855.3.2切削參數1865.3.3冷卻1865.4可切削陶瓷材料的銑削加工1875.4.1概述1875.4.2金剛石多齒鍍層端銑刀的高效率銑削1885.5可切削陶瓷材料的鑽削加工1925.5.1刀具材料1925.5.2冷卻條件1935.5.3主軸轉速1935.5.4鑽頭頂角193參考文獻194第6章 先進陶瓷的磨削加工技術19

66.1先進陶瓷材料的磨削特性1966.1.1磨削力1966.1.2磨削比能1996.1.3磨削溫度2006.1.4磨削表面形貌2026.1.5表面粗糙度2026.1.6比磨削剛度2026.1.7磨削比2036.1.8磨削強度2046.1.9表面相變2066.1.10殘余應力2066.2金剛石砂輪2066.2.1金剛石磨料2066.2.2結合劑2096.2.3金剛石的回收及再制造2116.3金剛石砂輪的修整2136.3.1電火花修整法2136.3.2杯形修整法2146.3.3軟彈性修整法2146.3.4激光修整法2156.3.5電解修整法2156.3.6ELID法2166.4陶瓷磨削機床217

6.5先進陶瓷材料的大背吃刀量緩進給磨削2196.5.1大背吃刀量緩進給磨削工藝的特點2196.5.2大背吃刀量緩進給磨削的分類2206.5.3大背吃刀量緩進給磨削工藝2216.5.4大背吃刀量緩進給工藝對磨床的要求2256.6高速磨削加工技術及其在先進陶瓷加工中的應用2266.6.1高速/超高速磨削加工技術的發展2266.6.2高速/超高速磨削加工技術的特點2276.6.3高速/超高速磨削工藝的典型形式2276.6.4高速/超高速磨削的關鍵技術231參考文獻235第7章 先進陶瓷材料的光整加工7.1先進陶瓷的研磨與拋光加工技術2377.1.1先進陶瓷的研磨加工技術2377.1.2先進陶瓷材料

的拋光加工技術2397.1.3研磨與拋光的主要工藝因素2417.1.4先進陶瓷的珩磨加工技術2497.2先進陶瓷材料的非接觸拋光2567.2.1彈性發射加工2567.2.2動壓浮離拋光2597.2.3浮動拋光2607.2.4切斷、開槽及端面拋光2667.2.5非接觸化學拋光2667.3先進陶瓷材料的界面反應拋光2677.3.1機械化學固相反應2687.3.2水合反應2697.3.3界面反應拋光原理2707.3.4機械化學拋光2707.3.5水合拋光272參考文獻275第8章 先進陶瓷材料的特種加工技術8.1超聲波加工技術2768.1.1概述2768.1.2超聲波加工原理與特點2778.1.3超

聲波加工設備2798.1.4超聲波加工技術2838.2電火花加工技術3008.2.1概述3008.2.2電火花加工機理與特點3018.2.3先進陶瓷的電火花加工技術3018.2.4陶瓷電火花加工的表面后處理3138.2.5陶瓷電火花的特種加工3148.3激光加工技術3158.3.1激光加工原理3168.3.2激光打孔3208.3.3激光切削3248.3.4激光加工陶瓷微裂紋分析3278.3.5陶瓷加工中激光技術的其他應用329參考文獻332 陶瓷材料由於其優異的耐磨損、耐腐蝕、抗高溫、低密度等性能,被公認為21世紀最有活力的新型材料之一,它和金屬材料、高分子材料、復合材料並

列為當代四大工程材料。

拋光原理進入發燒排行的影片

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具鉀離子選擇性表面增強拉曼散射基板之研究

為了解決拋光原理的問題,作者張豐銘 這樣論述:

本論文使用陽極氧化鋁(AAO)為基底,陽極氧化鋁為一具有奈米多孔結構之薄膜,後續使用此基板進行電鍍成長樹枝狀奈米銀結構,來製成表面增強拉曼散射(SERS)之基板。以鋁片進行陽極氧化形成一次氧化鋁後進行快速熱退火處理,接著浸泡於磷酸溶液中進行擴孔,最後將鋁片及陽極氧化鋁背面之阻障層蝕刻完成即可獲得通孔之陽極氧化鋁。後續將以兩種方法進行成長樹枝狀奈米銀結構,第一種先沉積奈米銀顆粒於陽極氧化鋁表面,奈米銀顆粒作為電子傳輸路徑使陽極氧化鋁表面長出樹枝狀奈米銀結構,第二種則是不移除陽極氧化鋁背面之鋁片,將鋁片作為電子傳輸路徑成長樹枝狀奈米銀結構。SERS基板製備完成後,將進行高分子內含薄膜(PIM)之

製作,主要由PVC以及增塑劑加上鉀離子載體混合而成,以旋轉塗布之方式將攪拌均勻的聚合物混合液塗佈於SERS基板表面,使SERS基板具對鉀離子測量之功能。 最後將樣品滴於SERS基板上,樣品為人工汗液主要成分為乳酸、尿素、氯化鈉、氯化鉀,使用532 nm波長之雷射作為激發光源,後由拉曼光譜分析樣品,實驗最後成功製備出具鉀離子選擇性之SERS基板。

流體輔助微納拋光原理與技術

為了解決拋光原理的問題,作者程灝波 這樣論述:

詳細闡述了適用於精密光學元件製造的流體輔助微納拋光原理與技術,針對於每一種工藝方法進行了全方位的描述,涉及起源與發展、原理、優缺點、具體的加工設備以及相關的工藝。    《流體輔助微納拋光原理與技術》分為9章,第1章對光學加工進行了綜述,其他章節分別介紹了磁介質輔助加工技術、磁流變拋光技術、電流變拋光技術、氣射流拋光技術、水射流拋光技術、磁射流拋光技術、浮法拋光技術、化學拋光。

陽極氧化鋁薄膜為反應介面沉積奈米銀製SERS基板

為了解決拋光原理的問題,作者蔡濬謙 這樣論述:

本論文研究主要利用陽極氧化鋁薄膜(AAO)作為反應介面製備奈米銀之表面增強拉曼散射AAO基板,先製備不同條件製成參數之陽極氧化鋁膜,再藉由不同種之穩定劑方法使其奈米銀顆粒沉積於陽極氧化鋁薄膜兩側表面及六角孔壁中,最後在調配人工汗液且逐一分析汗液成分中典型拉曼光譜後並加入於已完成之奈米銀AAO基板上量測表面增強拉曼散射(Surface Enhance Raman Scattering, SERS)之訊號強度。首先須將鋁基板表面進行拋光,其目的是為了除去鋁金屬因機械加工所產生之表面缺陷,接續在低溫攝氏2 ℃下進行陽極氧化處理,利用磷酸溶液與草酸溶液作為混合電解液並給予特定工作電壓,製成具有奈米級

孔洞之陽極氧化鋁,將其透過混酸、草酸及硫酸降電流方法進行阻障層薄化製程再利用0.5M濃度的氯化鉀(KCl)並給予-3.5V反向電壓,使陽極氧化鋁基板底部阻障層達到部分穿孔;完成後將陽極氧化鋁試片在 〖"2×10" 〗^"-5" "torr" 於高真空下進行熱退火處理。結束熱退火製程後利用蝕刻液除去鋁基板且保留完整之陽極氧化鋁薄膜,接著再浸泡於攝氏溫度為40 ℃的5wt%磷酸溶液中進行微結構之擴孔處理,最後再使用攝氏溫度為40 ℃的5wt%磷酸溶液滴定於陽極氧化鋁底部之阻障層,使陽極氧化鋁薄膜底部阻障層完全穿孔。前置製程完成後,接著進行化學還原之方法製作奈米銀顆粒,實驗中利用還原劑及不同的穩

定劑進行,且調配不同濃度參數試做出不同粒徑大小之奈米銀顆粒沉積於經熱退火及穿孔後的陽極氧化鋁薄膜,並透過SEM觀察奈米薄膜上下表面及孔洞中銀顆粒沉積情形。將人工汗液加入於奈米銀基板中,並藉由532nm波長雷射,量測樣品之表面增強拉曼散射(Surface Enhance Raman Scattering, SERS)訊號。探討陽極氧化鋁(AAO)經過三段式薄化阻障層及KCl溶液底部阻障層穿孔微結構、熱退火對奈米銀顆粒沉積於陽極氧化鋁薄膜之影響,實驗成功做出不同粒徑大小的奈米銀SERS薄膜並且增強拉曼訊號,能量測濃度0.5mM以下之乳酸及尿素樣品。