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FIX(新版)

為了解決曝光機介紹的問題，作者臥斧 這樣論述：

一群拯救死刑犯的人，加上一個熱血推理小說家， 催生出《FIX》 ●臺灣近三十年間重大社會案件改編● 賣出韓國版權、茁劇場《滴水的推理書屋》原著小說、Gami改編漫畫《FIX：英雄們》 　　■《FIX》計畫的啟動：不如來寫小說吧！ 　　二○一六年一月六日，新曆年假期不久，編輯收到廢死聯盟林欣怡的email，說他們剛開完鄭性澤律師團會議，雖然張娟芬早已為鄭性澤案寫了《十三姨ＫＴＶ殺人事件》，但因為是屬於法律與社會學面向的作品，他們想為鄭性澤爭取再審尋找另一次出版曝光機會。一週後，在出版社的會議室，眾人苦思良久，編輯正覺得已無法再有一本非虛構作品可以比張娟芬寫得更好的時候，腦中突然閃過

推理小說家臥斧的身影。編輯說，非虛構走不通，我們就來走虛構吧！ 　　■《FIX》是怎麼寫出來的：冤案像是寫壞了的推理小說 　　二○一六年四月十九日，小說家臥斧第一次到廢死聯盟開會，在聽完鄭性澤案的疑點與爭取再審的關鍵證據後，臥斧向編輯提出構思，他想到多年前曾經有個沒繼續下去的寫作計畫，就是討論推理應該怎麼寫的故事，他覺得冤案就像是寫壞了的推理小說，或許這兩者是可以連結的。不到二十天，臥斧就以鄭性澤案寫出了這本書的第一篇作品〈敲木頭〉，也開始與平冤協會討論該選擇哪些案子，最後就是《FIX》的七篇故事，涵蓋了臺灣三十年來甚受社會矚目的重要冤案。 　　■《FIX》想做到什麼 　　《FIX》本質上

當然是一本推理小說，包含了密室開槍、綁架、墜橋、性侵、跨國犯罪等各種案件類型，希望讓讀者有閱讀上的樂趣，也因為書中一個奇特的角色「阿鬼」，他總是在別人的作品發表時神出鬼沒地指正作者，「你搞錯凶手了！」「這裡不太合理！」所以讀起來也像是在辯論什麼是傑出推理小說的元素。但同時，這本書也希望做到書名「FIX」的意思，希望這個世界發生的事，我們都能修理、補齊、校準以及牢記。書的後記會揭曉是哪些案件，以及目前案件的進展。從《FIX》二○一七年首次出版以來，除了一個案件的當事人已遭槍決外，已有兩個案件獲得無罪平反，另有四個案件仍在持續救援。

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高效率大面積UV曝光機模組研究開發

為了解決曝光機介紹的問題，作者賴威 這樣論述：

近年來有關紫外線(Ultraviolet , UV)相關研究越發受到重視，尤其在於滅菌方面的研究，光源的選擇就顯得極為重要。UV汞燈曾是UV滅菌研究中最主要光源，但因為水俁公約的緣故，自2020年開始禁止出口及生產含汞的產品，傳統汞燈的設計就此走入歷史。本論文採用廣角深紫外發光二極體(Deep Ultraviolet Light emitting diodes, DUV LEDs) 的封裝設計代替傳統汞燈作為新式光源，均勻排列在基板上作為大面積光源，利用反射腔體將大角度散出的光線回收，結合自由曲面透鏡設計與調光透鏡提高均勻性和收束出光角度，達到大面積的均勻平行光源，並使用光學模擬軟體模擬優化

出光角度、均勻性和輻射照度。經過優化後，模擬結果表明出180 mm ×180 mm 的面積下，出光半強角為1.5°，出光效率達到73.92%，均勻性達82.84%。本文透過UV LEDs陣列代替傳統汞燈作為大面積光源，利用反射腔結合自由曲面透鏡與調光透鏡組合達到高效率、高均勻性的大面積平面光源，完成高效率UV大面積平面曝光機模組的研究開發。

牙材力：大師們的百寶箱

為了解決曝光機介紹的問題，作者林茂雄 這樣論述：

　　Top 100 Plus 經典臨床牙科器材，142項臨床牙科珍珠；牙醫師、牙技師與牙材商溝通的橋梁。   　　◎《牙材力：大師們的百寶箱》就是你的超能力── 　　● 濃縮數千篇文獻的精華，快速提升你的《牙材力》　　 　　● 牙醫學生、牙醫師、牙材廠商，每人必備牙材手冊 　　● 牙科材料超速學習，一次搞懂牙材分類、選擇標準及臨床使用 　　● 142 項牙科珍珠產品優缺點、臨床應用時機，與使用訣竅 　　● 牙醫師、牙技師與牙材廠商共同的語彙、溝通的橋梁      　　材料學在牙醫科學研究範疇內更見其精髓，任何一項新產品的推出，都是一項挑戰！牙醫界近幾年

的突飛猛進，更容易考驗這項說法！ 《牙材力：大師們的百寶箱》精選Top 100 Plus 經典臨床器材，根據分類順序排列方式，一一介紹每個產品的特點、臨床應用和操作訣竅，是學生的基本修煉，醫師的臨床寶鑑。

一種應用於UV-LED系統光源設計的光分布演算法之研究

為了解決曝光機介紹的問題，作者鍾奕晨 這樣論述：

本研究目標為建立一套應用於UV-LED系統光源的設計方法，此設計方法主要步驟如下：(1)將單光源之輻射照度光場分布模型化，(2)建立一多光源光分布函數演算法，(3)使用二次微分法對多光源間距進行最佳化，(4)建立一鏡像虛擬光源演算法，(5)將演算法計算結果輸入光學模擬軟體進行優化設計。本研究首先以最小平方法將單光源的輻射照度光場分布進行模型化，並建立演算程式，接著建立一多光源光分布函數演算法，此演算法能將多個光分布函數模型進行疊加計算，可根據目標將多光源系統光場分布最佳化。然後我們使用此光分布函數演算法對光源以最密堆積排列之UV-LED平行曝光機的光源排列間距進行設計，對光分布函數多點進行二

次微分，快速計算出在光場不同位置中，有著較佳輻射照度均勻度的光源排列間距，來達到平行曝光機目標面積內之輻射照度均勻度92%之設計要求。再來為增加平行曝光機之可使用面積，本研究透過改變光源位置以及使用反射元件的方式，利用多光源陣列邊緣的光線提升目標面積邊緣較低之輻射照度值，並以鏡像虛擬光源法撰寫一套演算法，計算較佳的光源以及反射元件相對位置，最後將結果輸入光學模擬軟體進行優化設計。根據設計結果顯示，本研究成功設計出在DSR = 10下，光源間距d = 31.2mm，目標面積輻射照度均勻度達92%之UV-LED平行曝光機，目標面積 x方向寬度102mm，y方向寬度114 mm，以及一目標面積x方向

寬度達117mm之掃描式曝光機，此結果證明了本研究所建立之技術應用於UV-LED系統光源的可行性，提供了一種準確的設計方法，使得設計者可以根據需求快速地計算UV-LED光源排列方式以及反射元件適當的擺放位置。