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逢甲大學 材料科學所 陳錦山所指導 王耀德的 鈦鎢奈米複合氧化物薄膜之磁控濺鍍沉積系統建立與其光觸媒特性 （2009），提出金屬接頭2p關鍵因素是什麼，來自於銳鈦礦。
鈦鎢奈米複合氧化物薄膜之磁控濺鍍沉積系統建立與其光觸媒特性
為了解決金屬接頭2p 的問題，作者王耀德 這樣論述：
本研究在超高真空的背景下，以固定的總壓（PO/Ar = 3）下共濺鍍沉積Ti-W複合氧化物（Ti-W-O）薄膜，利用沉積速率與濺鍍功率曲線，控制薄膜組成，以分別康寧玻璃為基材，沉積具有光誘發親水性、防霧、自潔效果之Ti-W複合氧化物薄膜。第一部份，建立三靶源磁控濺鍍機台設計、裝配以導入本實驗室目前已知的靶材配置、鍍層結構/組成調節與電漿表面改質及鍍層臨場結晶等技術，以利於製造高度耐候且高親水、持久性的防霧自潔TiO2鍍層。第二部份，使用無鹼的康寧玻璃（型號：7059）基板，以共濺鍍（co-sputter）沉積Ti-W複合氧化物（Ti-W-O）薄膜，利用濺鍍功率調控經過熱處理得到各種組成之Ti
-W-O薄膜，並採用國家同步幅射研究中心光源束線（Beam Lines）17B1做X光繞射分析與光束線16A1、、17C1及20A1等設施等分析方法以探討微結構的變化。