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國立高雄科技大學 電子工程系 楊素華所指導 張佐虞的 利用恆電位電沉積三氧化鎢結合奈米線複合薄膜之高光學調變電致變色元件 （2021），提出電子後視鏡眩光關鍵因素是什麼，來自於電致變色、三氧化鎢、奈米結構。
而第二篇論文國立金門大學 電子工程學系碩士班 翁克偉所指導 謝欣祐的 雙極脈衝磁控濺射系統製備氧化鉬薄膜應用於電致色變元件之研究 （2019），提出因為有 電致色變、氧化鉬、薄膜、田口方法的重點而找出了 電子後視鏡眩光的解答。
電子後視鏡眩光進入發燒排行的影片
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利用恆電位電沉積三氧化鎢結合奈米線複合薄膜之高光學調變電致變色元件
為了解決電子後視鏡眩光 的問題，作者張佐虞 這樣論述：
電致變色(Electrochromic, EC)材料可以通過電荷嵌入/嵌出或施加小電壓下引起的氧化還原反應可逆地改變其光學特性如穿透率、反射率和吸收率。在節能窗戶、防眩光汽車後視鏡和低能耗EC顯示器的應用引起了廣泛關注。本論文以提升EC元件之電荷容量與傳輸性質，進而改善元件穩定性與大光學對比度為研究動機。探討WO3 材料結合了WO3奈米線(WO3 Nanowires)在電致變色應用之研究，利用恆電位電化學沉積法將此金屬氧化物薄膜沉積於透明導電玻璃上，分析薄膜之特性與如何提升元件整體之性能。本論文分成兩個部分，第一部分為優化電沉積溶液，利用調整不同濃度的Na2WO4·2H2O與H2O2進行混合
形成過鎢酸前驅體溶液，再加入適量HCl調整pH值，電沉積於ITO基板上，最後經過一小時熱處理得到WO3薄膜。並利用各種量測方法探討其對於光學特性與電化學的影響。其中，利用紫外可見光分光光譜儀測定元件之穿透率，再利用三電極系統測定其電化學特性，並利用元件之電流密度數據計算響應速度與著色效率。由量測結果得知，適當的Na2WO4·2H2O與H2O2濃度可大幅提升光學對比度，並增強元件效能。第二部分嘗試將此薄膜應用於WO3奈米結構上，使用水熱法合成WO3奈米線。接下來用WO3薄膜通過恆電位電化學沉積在奈米線上，兩者形成奈米複合材料，由於WO3有優異的電子傳輸能力，並可提供更大的表面積披覆電致變色層，能
有效地提高電致變色元件之效率、對比度與穩定性。透過改變電沉積時間，找出最佳薄膜厚度。適當的WO3薄膜厚度可以促進電子轉移，提升電化學性能。
雙極脈衝磁控濺射系統製備氧化鉬薄膜應用於電致色變元件之研究
為了解決電子後視鏡眩光 的問題，作者謝欣祐 這樣論述：
電致色變是近年來受矚目的新興技術，並能應用於節能智慧窗、汽車天窗、防眩光後視鏡、電子標籤等，但是目前除了製程限制外尚包括電極元件間的附著弱化，酸性液態電解質之腐蝕效應、長期強光照射高溫環境導致電解質劣化與漏液等，均為導致電致色變材料使用壽命短、低光學密度及著色緩慢之原因。本研究所提田口方法優化電致色變薄膜，透過此方法並能結合專家經驗法則相互整合，大量減少實驗次數，更能有效的尋找出電致色變薄膜最佳製程參數製備氧化鉬薄膜，根據田口方法預測分析顯示，最適合實驗參數組合為濺鍍功率200W及氧氣流量20sccm時，並經由預測分析結果可知，原始參數濺鍍功率50W與氧氣流量5sccm時，S/N比為42.7
6，優化後可達到S/N比為51.20，相差將近8.43。並且透過XRD、SEM、電致色變特性、光學分析以及XPS分析濺鍍功率與氧氣流量對氧化鉬薄膜特性影響，結果顯示由JCPDF card 89-1554、JCPDF card 65-1273顯示實氧化鉬薄膜為單斜結晶結構具有MoO3、MoO2，濺鍍功率50、100、200W時優選方位為MoO2(011)，濺鍍功率150W時優選方位為MoO2(110)。微觀結構可以觀察到，表面形貌成等軸狀結構，當氧氣流量增加，當氧氣流量增加，表面顆粒尺寸變小、晶界密度上升，表面型態變得緻密。光穿透度分析結果顯示，最佳參數為150 W氧氣流量20 sccm，紫外光
(400 nm)、藍光(470 nm )、可見光(550 nm)、紅外光(800 nm)光學調變(ΔT)分別為16.4、26.9、40.9、39.3，光學密度(ΔOD)分別為0.262、0.368、0.525、0.403，著色效率(CE)為17.345、24.336、34.758、26.673。化學成分分析結果顯示，在O1s細部分鋒圖發現，當氧氣流量上升，MoO3比例也會上升，由此可得到氧氣流量上升，結晶結構優選方位特徵峰增強，表面形貌粒徑下降使界面密度上升增加電致色變反應面積，在電致色變特性與光學特性也有顯著的上升。