775馬達規格的問題,透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列包括價格和評價等資訊懶人包

國立雲林科技大學 電機工程系 毛偉龍所指導 高煜鈞的 自適應模糊逆向步進控制器在雙軸軌跡控制應用 (2021),提出775馬達規格關鍵因素是什麼,來自於XY 平台、自適應模糊逆向步進控制、自適應模糊小波逆向步進控制、NURBS 曲線、軌跡控制。

而第二篇論文國立臺北科技大學 電機工程系 張朝陽、曾國雄所指導 陳劭維的 微型放電加工系統之電源開發與其應用於電火花放電法製備奈米銀膠體 (2021),提出因為有 功率因數修正器、降壓轉換器、數位控制、電火花放電法、微型放電加工系統的重點而找出了 775馬達規格的解答。

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了775馬達規格,大家也想知道這些:

自適應模糊逆向步進控制器在雙軸軌跡控制應用

為了解決775馬達規格的問題,作者高煜鈞 這樣論述:

近年來自動化生產已經是發展趨勢,使得精密機械與設備在各個產業中也越來越被廣泛使用,而如何讓精密機械能夠有更好的工作效率與更精確的軌跡控,就必須要使用較好的控制方法來做控制,因此控制法的設計是非常值得去研究的。本論文中,利用系統動態方程式設計逆向步進控制器,接著根據自適應模糊與自適應模糊小波理論加入逆向步進控制器中,對於參數的不確定性與外界干擾進行推導和對於系統的穩定性來分析,使用 Lyapunov function 穩定性定理證明所設計的控制法能穩定且收斂。本論文模擬與實驗都使用 MATLAB-Simulink 的 Embedded function 來呈現結果,在模擬中使用近似於交流伺服馬

達的非線性數學式,於模擬測試完再以實際平台來實驗,軌跡規劃是利用 NURBS 曲線去設計圖形軌跡,其圖形分別為蝴蝶、心形、蝴蝶結、星形、三叉戟、圓形、花以及Ω共八種圖形執行軌跡追隨,接著計算追隨誤差之標準差與追隨平均誤差比較數據結果,實驗結果顯示自適應模糊小波逆向步進控制器有較好的精確度,能夠有效的降低誤差及更良好的追隨軌跡。

微型放電加工系統之電源開發與其應用於電火花放電法製備奈米銀膠體

為了解決775馬達規格的問題,作者陳劭維 這樣論述:

近年來,奈米材料應用於日常生活、農、工、生醫與國防等領域,因此,奈米膠體的製備方法已成為奈米科技所重視的主要議題之一。化學方法在製備奈米膠體時需添加表面活性劑來抑制粒子間的聚集,故其製備的樣品含有材料以外的元素。放電加工機可以應用於製備奈米膠體,此製備奈米膠體方式稱為電火花放電法,此方法的製程不需添任何物質即可製備出良好的奈米膠體。但工業型放電加工機體積龐大,電源也存在效率、功率因數低、價格高等缺點。為改善前述缺點,本論文設計一套微型放電加工系統來製備奈米膠體,並以製備奈米銀膠體為例。本論文內容包含電源系統、機械結構、放電電路等項目的設計。電源系統包含功率因數修正器及降壓轉換器,功率因數修正

器利用型號為UCC28019A當作控制器,在電路滿載的測試中,效率高達95 %以上,且功率因數達0.99以上。降壓轉換器將將功率因數修正器之輸出電壓390 V降壓至100 V,並以數位控制器STM32G474開發板控制降壓轉換器。本論文在滿載的情況下,效率可達95 %以上,回授控制也能穩定在100 V。機械結構以5相步進馬達搭配滑台,取代過往伺服系統體積及價格等問題。放電電路配合機械結構,並使用Python中的Tkinter套件設計此系統之人機介面,人機介面與STM32G474開發板進行傳輸溝通,設定製備膠體之製程時間參數Ton-Toff。數位控制器偵測電壓、電流之回授訊號,控制放電電路以製備

奈米銀膠體。為了分析奈米銀膠體之特性,利用紫外光/可見光光譜儀、奈米粒徑及電位分析儀、X光繞射儀、穿透式顯微鏡進行分析。在Ton-Toff為30-30 μs下,微型放電加工系統能製備出符合粒徑且懸浮性能好的奈米銀膠體,此膠體的吸收峰值為384nm、吸收率為0.237、粒徑分布為35.55 nm、界達電位為-32.2 mV。使用穿透式顯微鏡顯得知銀顆粒晶格寬度與平均粒徑分別約為0.2389及24.84 nm。經X射線繞射分析該膠體的晶相和特徵峰為銀材質。本論文之微型放電加工系統的成本約新台幣20,000元,此成本為工業級放電加工機成本的2.2%,故此設備可大幅降低電火花放電法製備奈米銀膠體的設備

成本。