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另外網站15种SF6气体绝缘电气设备泄漏检测方法也說明：在疑似点包扎塑料袋，静置规定的时间后采用定量检测仪检测包扎部位的SF6气体浓度来判断是否漏气。 优缺点:.

國立中央大學 光電科學與工程學系 陳彥宏所指導 林依欣的 鈮酸鋰薄膜光電元件之製程開發與研究 （2019），提出Sf6 缺點關鍵因素是什麼，來自於鈮酸鋰薄膜、鈮酸鋰、絕熱耦合器、定向耦合器、脊型波導、量子系統。

而第二篇論文國立中興大學 材料科學與工程學系所 武東星所指導 林子根的 抗電漿蝕刻用氧化釔、氟化釔和氟氧化釔塗層材料之特性研究 （2017），提出因為有 氧化釔、氟化釔、氟氧化釔、大氣電漿熔射、抗電漿蝕刻的重點而找出了 Sf6 缺點的解答。

最後網站蝕刻技術則補充：天上的缺點，也就是其蝕. 刻結構的形狀是各方向均. 勻的，這樣會造成嚴重的. 側向腐蝕現象，顯著地限 ... O2、SF6，ICP RF最大. 功率900W，Bias RF最. 大功率300W，.

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧：

除了Sf6 缺點，大家也想知道這些：

鈮酸鋰薄膜光電元件之製程開發與研究

為了解決Sf6 缺點的問題，作者林依欣 這樣論述：

本實驗主要開發鈮酸鋰薄膜波導之不同製備方法，並分析及比較各方法之優缺點。本實驗將x-cut鈮酸鋰薄膜波導設計於單模條件下，並透過軟體R-soft之光束傳播法（Beam propagation method, BPM）模擬直波導、絕熱耦合器(Adiabatic coupler, AC)及晶片上的量子系統(Quantum system-on-chip, QSoC)之模態及光傳播情況。模擬結果顯示，於絕熱耦合器(Adiabatic coupler)有效耦合長度為0.4mm，相比於傳統鈮酸鋰20mm-50mm之耦合長度大幅減小了98%; 並且於晶片尺寸5mm1mm0.5mm之QSoC得到25%:

25%:25%:25%之分光比。波導製備方法分為兩部分，共五種方法，第一部份(方法一、二、四)利用黃光微影、濕蝕刻及乾蝕刻技術於鈮酸鋰薄膜上蝕刻出脊型波導;第二部份(方法三)利用雙束聚焦離子系統(Dual beam-focused ion beam system, FIB)，於鈮酸鋰薄膜上蝕刻出線寬0.8m，側壁角度82之脊型波導，並量測TE偏振光總插入損耗~15.77dB，耦合損耗估計為14.19dB，傳播損耗估計為0.35dB/mm；TM偏振光總插入損耗為20.58dB，傳播損耗估計為25.75dB/mm。另一方面，在與耶拿大學合作下，利用IBEE(Ion-beam enhanced

etching)聚焦離子數蝕刻法(方法五)，成功量測到AC及QSoC模態分佈，其AC結構總損耗為22.19dB。在未來工作上，由於此脊狀波導結構於鈮酸鋰薄膜上完成，有別於傳統的鈮酸鋰調制器，可將元件尺度縮小至微米等級，未來配合CMOS等級之電光驅動電壓，可以與矽光子學等相關技術進一步整合，作為重要的矽光子學中之主動調制元件並實現積體化元件。

抗電漿蝕刻用氧化釔、氟化釔和氟氧化釔塗層材料之特性研究

為了解決Sf6 缺點的問題，作者林子根 這樣論述：

本論文利用大氣電漿熔射法製備抗電漿蝕刻的氧化釔(Y2O3)、氟化釔(YF3)和氟氧化釔(YOF)塗層，並研究各種塗層機械性質與其在四氟化碳/氧電漿蝕刻下化學反應機制，並觀察其對腔體石英層蝕刻行為與晶圓微粒汙染狀況。電漿熔射功率在15 kW時，此三種塗層有較佳的機械性質與薄膜結構特性，其中氟氧化釔與氟化釔塗層孔隙率皆小於3 %，氧化釔為6 %，這是因為氟氧化釔熔點1,150度和氟化釔的熔點1,378度皆比氧化釔2,425度來的低，低熔點的粒子在熔射時可完全熔融並獲得緻密的塗層。維氏硬度測試，硬度最高的是氧化釔塗層因為Y-O的鍵結能685 (KJ/mol)比Y-F 605 (KJ/mol)來的高

。從耐電壓測試中氟氧化釔塗層的崩潰電場為5.5 kV，高於氟化釔塗層的4.9 kV及氧化釔塗層的3.2 kV，這歸因於氟氧化釔塗層有最低的孔隙率。 將氧化釔、氟化釔與氟氧化釔塗層經由四氟化碳/氧電漿蝕刻後，氧化釔與氟化釔在塗層表面會形成氟氧化釔的變質層，而其厚度分別為5.2 nm與6.8 nm，因氧化釔塗層較不易與氟離子進行反應，所以氟氧化釔的變質層厚度比氟化釔低，而氟氧化釔塗層則未觀察到變質層形成。氧化釔塗層表面雖然形成氟氧化釔變質層，但因為變質層的體積膨脹，加上氧化釔塗層表面有裂縫與氟氧化釔變質層彼此摩擦進而造成微粒污染。而原本氟化釔塗層表面已氟化並形成穩定的氟氧化釔變質層且無微粒污

染，但蝕刻過程中氟化釔塗層易與氧原子形成鍵結造成蝕刻石英層時線寬會偏小，而氟氧化釔塗層並無發現上述缺點。蝕刻速率測試發現氟化釔蝕刻速率147 nm/min大於氧化釔126 nm/min和氟氧化釔96 nm/min，氟氧化釔塗層較為耐電漿蝕刻。實驗數據與分析結果充份顯示出氟氧化釔塗層在機械性質與蝕刻反應特性較其他塗層優異，將可以做為新抗電漿蝕刻塗層材料。

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