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國立臺灣大學 環境工程學研究所 童心欣所指導 陳于琇的 紫外光與氯化三聚氰酸消毒程序對於MS2噬菌體與Bacillus subtilis孢子之抑制效果 （2021），提出ms2 205/55r16關鍵因素是什麼，來自於高級氧化處理程序、紫外光結合自由餘氯、氯化三聚氰酸、MS2 phage、Bacillus subtilis spore。
而第二篇論文國立高雄科技大學 機械工程系 江家慶所指導 馮文凱的 D型雷射輔助蝕刻長週期光纖光柵感測器研製及應用 （2021），提出因為有 長週期光纖光柵、D型光纖、雷射輔助蝕刻、溫度、類風濕性關節炎的重點而找出了 ms2 205/55r16的解答。
紫外光與氯化三聚氰酸消毒程序對於MS2噬菌體與Bacillus subtilis孢子之抑制效果
為了解決ms2 205/55r16 的問題，作者陳于琇 這樣論述：
最近以紫外光為基礎的高級氧化處理程序(UV-based advanced oxidation process, UV-based AOP)因為能夠產生高反應性自由基而廣泛受到應用，其中紫外光結合自由餘氯(UV/chlorine)具有更加優勢的使用條件。氯化三聚氰酸作為消毒劑使用能夠穩定氯的保存，並且在紫外光照射下產生高穩態的自由基。為了改善一般消毒手段引發的負面影響，例如：抗性微生物的生存、消毒副產物的形成、自由餘氯的消耗等等，尤其應用在偏遠地區或是游泳池的情況，本研究調查紫外光結合氯化三聚氰酸的程序對於MS2 phage與Bacillus subtilis spore的消毒效果，並且探討氯
化三聚氰酸組成比例、當水樣中含有有機物時對於抑制能力的影響。根據紫外線光解氯化三聚氰酸或是氯的結果，兩者中總氯的濃度分別在120分鐘與75分鐘後由3 mg/L下降至0 mg/L，顯示透過同時添加氯與三聚氰酸從而形成氯化三聚氰酸能夠減緩其中總氯被消耗。探討三種比例的氯化三聚氰酸對於兩種指標微生物的抑制效果，雖然在單獨使用時幾乎相同，但是當應用於紫外光結合氯化三聚氰酸時會存在差異，MS2 phage與Bacillus subtilis spore分別在3 mg/L自由餘氯搭配2.73、5.46 mg/L三聚氰酸時具有最佳失活率，在反應2分鐘後分別達到4.10、4.74 log inactivati
on。比較紫外光結合氯化三聚氰酸的消毒程序與其他相關的方法；在磷酸緩衝溶液中，對於兩種指標微生物而言，結合紫外光與氯化三聚氰酸是有效消毒程序，其中MS2 phage相較Bacillus subtilis spore明顯提升協同作用，因為MS2 phage失活是有關於紫外線與自由餘氯以及自由基、Bacillus subtilis spore失活主要是受限於紫外線；在RO單元出流水或是戶外游泳池池水中，對於兩種指標微生物而言，雖然環境水樣中含有其他物質會減弱攻擊力，但是結合紫外光與氯化三聚氰酸依然是有效的消毒程序。
D型雷射輔助蝕刻長週期光纖光柵感測器研製及應用
為了解決ms2 205/55r16 的問題，作者馮文凱 這樣論述：
在本研究中提出一種新式D型雷射輔助蝕刻長週期光纖光柵感測器(D-Shaped Laser-Assisted Etching Long-Period Fiber Gratings，DE-LPFGs)之製作方式。在單模光纖(Corning SM1500 9/125) 纖殼上利用KrF準分子雷射寫入，再結合雷射輔助蝕刻技術，在光纖上蝕刻出D型的結構，最後在D型光纖表面上利用相位光罩，濺鍍(Sputtering Coating)製作出光柵，製造出直徑60 μm、週期620 μm的DE-LPFGs。在溫度實驗中，以DE-LPFGs進行溫度量測，記錄溫度上升與下降過程，溫度量測範圍為30 oC到100
oC。在溫度上升實驗中，平均共振波長靈敏度最高可達0.017 nm/oC，平均傳輸損耗靈敏度最高可達0.062 dB/oC，其平均共振波長線性度最高可達0.68，平均傳輸損耗線性度最高可達0.899；在溫度下降過程，平均共振波長靈敏度最高可達0.009 nm/oC，平均傳輸損耗靈敏度最高可達0.035 dB/oC，其平均共振波長線性度最高可達0.239，平均傳輸損耗線性度最高可達0.932。在類風溼性關節炎(Rheumatoid Arthritis，RA)生醫實驗中，以雷射輔助蝕刻長週期光纖光柵感測器(Laser-Assisted Etching Long-Period Fiber Grati
ngs，LLPFGs)量測不同的抗原濃度(0.1 / 0.01 / 0.001 µg/ml)，分析其共振波長與傳輸損耗變化。實驗結果發現，當抗原濃度越低時，波長變化時間越短、波長飄移量越小。