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逢甲大學 化學工程學系 林永森所指導 胡真瑜的 以低溫大氣電漿聚合可撓式電致色變氧化釩薄膜之研究 （2020），提出sol鏡片關鍵因素是什麼，來自於電致色變、大氣電漿、可撓式基板、氧化釩。
而第二篇論文明新科技大學 光電工程系碩士班 江政忠所指導 黃振棋的 以電漿表面改質轟擊聚二甲基矽氧烷膜層製鍍薄膜之研究 （2020），提出因為有 雙液型矽膠、PDMS、氧電漿、二氧化矽、表面層、介面層的重點而找出了 sol鏡片的解答。
懶人最愛的多肉植物&仙人掌
為了解決sol鏡片 的問題，作者松山美紗 這樣論述：
造型千奇百怪的多肉植物與仙人掌，因為先天的產地特性，不太需要喝水，所以就變成最受歡迎的懶人植物，但其實每個品種之間也有著些微差異，想要讓自己的寶貝長得更美更好，還是要對症下藥喔！書中介紹多達53個品種的多肉植物與仙人掌，並以微距拍攝展現肉肉們細緻微小卻不容忽視的面貌特徵，欣賞了不同造型的寫真之後，也有教授簡單的組盆手法，讓多肉可以變身盆中的小風景，當成別有味道的居家布置囉！
sol鏡片進入發燒排行的影片
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以低溫大氣電漿聚合可撓式電致色變氧化釩薄膜之研究
為了解決sol鏡片 的問題，作者胡真瑜 這樣論述：
誌 謝 II摘 要 IIIABSTRACT V總目錄 7表目錄 (LIST OF TABLE) 11圖目錄 (LIST OF FIGURES) 13符號說明 17第一章 前言 181-1 概述 181-2 研究動機及目的 21第二章 文獻回顧 232-1 色變技術 232-1-1 電致色變 232-1-2 光致色變 242-1-3 氣致色變 242-1-4 熱致色變 252-2 電致色變元件介紹 252-2-1 電致色變歷史與應用 252-2-2 電致色變元件構造 272-2-3 電致色變材料種類 292-3 電致色變製備法比較 332-4
氧化釩的介紹 362-4-1 氧化釩的基本性質 362-4-2 釩薄膜變色機制 37第三章 實驗方法與步驟 423-1 實驗流程 423-1-1 實驗材料與設備 443-1-2 實驗基材前處理 453-1-3 備製氧化釩薄膜之程序 463-1-4 氧化釩薄膜製備實驗變因 473-2 探討氧化釩薄膜之電化學性質 493-2-1 循環伏安法 (CYCLIC VOLTAMMETRY, CV) 493-2-2 階梯電位響應時間分析 513-2-3 LIVO2.5的植入係數 533-3 探討氧化釩薄膜之光學性質 543-3-1 穿透度變化分析 543-3-2 光學密度計
算 543-3-3 著色效益計算 553-4 探討氧化釩薄膜之基本性質 563-4-1 薄膜表面型態分析 (FE-SEM) 563-4-2 紅外線光譜儀 (PE-FTIR) 563-4-3 X光繞射分析（XRD） 573-4-4 高解析多功能掃描式探針顯微鏡 (SPM/AFM) 583-4-5 化學分析電子光譜 (XPS) 58第四章 結果與討論 604-1 探討氧化釩薄膜之電化學性質 604-1-1 循環伏安法 (CYCLIC VOLTAMMETRY, CV) 604-1-2 階梯電位驅動之影響 674-1-3 LIVO2.5的植入係數 734-2 探討氧化釩
薄膜之光學性質 764-2-1 穿透度變化分析 764-2-2 光學密度計算 784-2-3 著色效益計算 794-2-4 計算薄膜之能隙 804-3 探討氧化釩薄膜之基本性質 814-3-1 薄膜表面型態分析 814-3-2 薄膜厚度與沈積速率分析 834-3-3 薄膜鍵結分析 854-3-4 X光繞射分析 864-3-5 薄膜表面粗糙度分析 874-3-6 化學元素分析 91第五章 結論 98參考文獻 100附錄 115
以電漿表面改質轟擊聚二甲基矽氧烷膜層製鍍薄膜之研究
為了解決sol鏡片 的問題，作者黃振棋 這樣論述：
本實驗是利用雙液型矽膠Dow Corning ® OE 6370HF均勻混合後，以旋轉塗佈法塗佈在B270玻璃基板上，烘烤形成聚二甲基矽氧烷(PDMS)，然而製鍍材料於PDMS，會有附著性不佳的問題，取未轟擊PDMS膜層基板，以分光光譜儀量測穿透率，及橢圓偏光儀量測光學常數，水接觸角測量基板，判斷表面膜層親、疏水性。使用氧電漿表面改質，來改善附著性不佳的問題，表面改質後的PDMS基板，量測分光光譜儀、橢圓偏光儀與水接觸角變化，互相比較轟擊前與轟擊後的差異，通過氧電漿轟擊過的PDMS，固定其功率為5瓦，轟擊時間分別為30秒、60秒、90秒、120秒，從結果中得知，不同時間轟擊後的PDMS，穿透
率皆為下降，折射率上升，水接觸角有明顯改善，轟擊90秒與120秒的水接觸角改善程度與有效性最為接近，轟擊120秒的PDMS，表面會有不規則龜裂，90秒則沒有此情況，因此選擇90秒為最佳參數，發現轟擊90秒後的PDMS，表面上形成氧化物膜層，表面層經由厚度分析約為9.7奈米。使用磁控濺鍍在轟擊後的PDMS上鍍製薄膜，鍍上一層45奈米的二氧化矽，經由分析得知，PDMS基板表面會形成兩層，一層是表面層與二氧化矽薄膜混合的介面層，厚度約為24.3nm，二層為純二氧化矽薄膜，厚度約為18nm。將上述分析結果設計出抗反射薄膜，並優化出最佳厚度，達到高穿透、低反射效果，可應用於微型鏡頭、軟式可調焦鏡片光學鍍
膜上。關鍵字:雙液型矽膠、PDMS、氧電漿、二氧化矽、表面層、介面層