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國立臺東大學 應用科學系 胡焯淳、邱泰嘉、林怡君所指導 陳婷雅的 利用臥式研磨機大規模製備次微米等級水相絹雲母 (2019),提出桌上型uv直噴機關鍵因素是什麼,來自於臥式研磨機、絹雲母礦、羧甲基纖維素、阻隔紫外光。

而第二篇論文亞洲大學 資訊工程學系 陳兆南、黃俊杰所指導 徐昌業的 以超音波噴塗法製備二氧化矽親水及疏水薄膜之研究 (2016),提出因為有 親水、疏水、二氧化矽、溶膠凝膠、超音波噴塗的重點而找出了 桌上型uv直噴機的解答。

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接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了桌上型uv直噴機,大家也想知道這些:

利用臥式研磨機大規模製備次微米等級水相絹雲母

為了解決桌上型uv直噴機的問題,作者陳婷雅 這樣論述:

絹雲母礦係層狀矽酸鹽礦物的一種,為片狀結構,平均粒徑為10 μm,可作為造紙、建材中的填料,但受限於大尺寸使其實際資源利用效益並不大。本研究以臥式研磨機溼式研磨大規模製備次微米等級水相絹雲母,研磨轉速為1500 rpm,選擇大小為1.2 mm及0.6 mm的氧化鋯球作為研磨介質。在研磨漿料中添加羧甲基纖維素 (CMC) 作為增稠劑與分散劑。實驗過程中分別探討了 (1) 絹雲母的初始濃度、(2) CMC的添加量、(3) 氧化鋯球與絹雲母的重量比,以及 (4) 儲料桶上方加裝攪拌器對於絹雲母平均粒徑變化的影響。從實驗結果中得知,在儲料桶上方加裝攪拌器能讓儲料桶內的絹雲母漿料在研磨過程中混合均勻。

當絹雲母漿料初始濃度為35 %,CMC添加量為0.5 %,氧化鋯球與絹雲母的重量比值為 2.38,並將漿液之黏度控制在1500~3500 mPa‧s時,可有效使其絹雲母之平均粒徑降低,研磨絹雲母的平均粒徑從10 μm降低至0.45 μm,厚度從1 μm降低至45 nm。從XRD結果中可發現,經研磨過的絹雲母並未產生新的晶相。將微量的研磨絹雲母 ( 0.16 g /cm2 ) 塗於石英玻璃上,可見光 ( 波長為550 nm ) 仍有77.4%的光穿透率,同時能有效地遮蔽UV光 ( 200 nm ~ 400 nm的平均光穿透率為40.5 % );進一步更以亞甲基藍降解實驗證明研磨絹雲母確實具有阻隔

紫外光之功能。

以超音波噴塗法製備二氧化矽親水及疏水薄膜之研究

為了解決桌上型uv直噴機的問題,作者徐昌業 這樣論述:

無機自潔薄膜相較於有機自潔薄膜不會因為隨著使用時間的增加而造成親/疏水性能下降,而且有較佳的機械性質,如硬度、耐磨耗特性等。有機薄膜則含有大量的官能基,容易達到超親水/超疏水的效果,因此本研究中自潔塗層以有機-無機薄膜為材料,藉由常溫下的超音波噴塗法,直接均勻噴塗於紫外光/臭氧改質後的玻璃基材上,使自潔塗層能夠具備更佳之機械特性以及物理性質去增加應用範圍。 本實驗採用溶膠凝膠法(sol-gel process)合成二氧化矽,利用矽酸四乙酯(TEOS)於水時具有水解與縮合特性,可以將TEOS水解的單體互相聚合產生縮合反應,還原成二氧化矽粒子,形成三度空間鍵結的結構,最後添加有機高

分子單體進去使其再聚合成有機-無機複合薄膜。本研究將探討金屬醇鹽種類、水與乙醇的莫耳體積比例、合成溫度及時間等參數對有機-無機複合親/疏水薄膜之影響,以場發射電子顯微鏡 (FE-SEM)、多功能掃描探針顯微鏡 (AFM)、傅立葉轉換紅外線光譜儀(FTIR)、可見光紫外光分光光譜儀(UV/Vis Spectrophotometer)、水接觸角量測儀 (WCA tester)、鹽霧試驗機、磨耗試驗機、百格刮刀附著力測試儀等進行分析,以探討其表面形貌、微觀結構之變化、光學、化學、物理及機械等特性結果。