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氨水msds的問題，我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍，推薦蔡嘉一,陳珊玫寫的 工業安全與緊急應變概論 可以從中找到所需的評價。
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國立臺北科技大學 化學工程與生物科技系化學工程碩士班 陳奕宏所指導 Trinh Minh Viet的 利用超重力旋轉填充床氣提異丙醇、氨氮及二氧化氯水溶液 （2020），提出氨水msds關鍵因素是什麼，來自於Rotating packed bed、air stripping、IPA、ammonia、chlorine dioxide、wastewater stripping、air disinfection。
而第二篇論文國立交通大學 工學院產業安全與防災學程 黃志彬所指導 陳若安的 矽甲烷供應安全評估:以某半導體廠為例 （2020），提出因為有 PHAST軟體、矽甲烷、模擬評估、氣體擴散的重點而找出了 氨水msds的解答。
最後網站光氣則補充：對醫師之提示：患者吸入時，考慮給予氧氣。 Page 2. 物質安全資料表. 序號：9 9. 第2 頁 ...
工業安全與緊急應變概論
為了解決氨水msds 的問題，作者蔡嘉一,陳珊玫 這樣論述：
為數眾多的化學物充斥於市場內，其種類日新月異、五花八門，往往令人摸不著頭緒，儘管大部分的化學物皆有自身的用處，但同時也具有潛在危害性，因此做好這些化學物的管理，以及重視管理人才之培育更顯急迫。 近年來六輕火災、高雄氣爆、八仙樂園爆燃，以及近期的維冠大樓震災等災難，造成重大社會成本和悲劇，不僅顯露工業安全之重要，更揭露了台灣對於環境及工安問題的準備與理解之不足。期望藉由本書能提升讀者對於工業安全的理解，並能將緊急應變概念靈活運用，創造安全、和諧的工業環境。
利用超重力旋轉填充床氣提異丙醇、氨氮及二氧化氯水溶液
為了解決氨水msds 的問題，作者Trinh Minh Viet 這樣論述：
This study investigates the application of the rotating packed bed for two purposes which are: wastewater treatment and stripping of ClO2 as for air disinfection. Industrial wastewater from the wafer and PCB (printed circuit board) manufacturing contains a very high concentration of IPA (isopropyl
alcohol) and ammonia. During the outbreak of coronavirus disease (COVID-19) pandemic, air disinfection has become extremely necessary which has paved a way for ClO2 application since the ClO2 gas can be stripped out from the high concentration solution (above 1000 ppm) to a desired dosage in the gas
phase by the rotating packed bed. The concentration of COD (represented for IPA) in wafer manufacturing wastewater and ammonia in PCB wastewater is 22814 mg/L and 10800 mg/L, respectively. The stripping efficiency toward the pollutants, the overall liquid-phase mass transfer coefficient (KLa), and
overall height of mass transfer unit (HTUOL) were examined under various operating conditions such are gas to liquid ratios, rotational speeds, inlet liquid temperatures for IPA stripping, and different pH value for ammonia stripping. At the optimum conditions, the removal efficiency of IPA and ammo
nia was recorded approximately 80%. The ammonia stripping efficiency also reached around 80% with the optimum condition of pH 12, rotational speed of 900 rpm, and gas-liquid flow rate ratios of 1000. A lower concentration of COD and ammonia can be achieved if the stripping process repeats in series
within the same optimum condition. The ClO2 stripping experiment was conducted in a rotating packed bed of High-gravity (HiGee) process-intensification-based disinfection equipment. Parameters affect the gas concentration were examined such as input liquid concentration, gas flow rate. Stripping eff
iciency of different types of ClO2 solution is also compared in this experiment. The optimum operating conditions for ClO2 stripping was found at gas-liquid flow rate ratio of around 3000, rotational speed of 1200 rpm. The concentration of ClO2 gas generated from stripping varied from 30 ppm to 265
ppm, which was conviniently adjusted by choosing corresponded liquid flow rate (0.04 mL/min to 0.21 mL/min) and gas flow rate (494 L/min tot 988 L/min) with the initial concentration of liquid of 1730 mg/L.
矽甲烷供應安全評估:以某半導體廠為例
為了解決氨水msds 的問題，作者陳若安 這樣論述：
摘 要半導體為目前國內最具競爭性之展業，隨著半導體製程之演進，使矽甲烷(Silane,SiH4)所扮演的角色也隨之加重。矽甲烷在半導體製程中主要是用於薄膜製程中，使用矽甲烷與氫氣反映特性來提升介電質附著層之效能。但由於其易燃特性，如何在供應品質與安全考量中達到極大化之平衡點是我們需要探討之議題。以往之安全改善皆是以理論及概念來作為改善依據，本文會針對矽甲烷供應系統安全裝置之演進做為探討題材，並使用PHAST(Process Hazard Analysis Software Tool) – RISK模組實施定量風險評估的擴散模擬分析，以數據呈現驗證裝置改善之有效性。本次評估參考荷蘭PGS
3 (Publish series on dangerous substances- guidelines for quantitative risk assessment)規範，在某半導體廠矽甲烷供應區，使用設備洩漏源，區分為氣體容器及氣體管線進行後果模擬分析，並利用(1)潛在性噴射火焰之熱輻射與洩漏源距離及影響範圍之關係; (2)爆炸過壓與洩漏源距離及影響範圍之關係及計算。結果顯示，當矽甲烷因管線斷管而洩漏並引發噴射火焰熱輻射時，若在管線安裝限流閥，即可有效控制危害；而在容器的最嚴重情境，雖有安裝洩壓裝置，但危害仍然會影響到矽甲烷供應區域及其鄰近氨氣供應區域。在爆炸過壓方面，結果顯示因管線
斷管而引發之爆炸影響，若在管線安裝限流閥，即可有效控制危害；而在容器的最嚴重情境，雖有安裝洩壓裝置，但影響範圍也擴及了矽甲烷供應區域及其鄰近氨氣供應區域。關鍵字: PHAST軟體、氣體擴散、矽甲烷、模擬評估