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光電工程概論(第二版)(精裝本)

為了解決雷射種類的問題，作者孫慶成 這樣論述：

　　本書內容避免較艱深的數學計算，所觸及的學理與應用皆在當前光電科技中，扮演極為重要的角色。本書在光學上的著力較一般的書略多，內容涵蓋光學基礎，包括光學重要觀念、幾何光學、干涉光學，並詳細講解繞射光學及全像光學等。書中的九個章節可分成二大部分，其一是基礎光學，包括第一至三章與第七及第八章，其他的四章則為重要的光電科技簡介。 本書特色 　　1.本書著重於光學上的介紹及重要光電科技的簡介，是光電科技學習者的入門書籍。 　　2.內容涵蓋光學基礎，包括光學重要觀念、幾何光學、干涉光學，並詳細講解繞射光學及全像光學等，所觸及的學理與應用皆在當前光電科技中，扮演極為重要的角色。

　　3.本書掌握光波特質與分析方法，使讀者在光電科技的學習成效上事半功倍。

雷射種類進入發燒排行的影片

側向電流注入式之高侷限光波導整合絕緣層覆矽半導體雷射

為了解決雷射種類的問題，作者朱俊燁 這樣論述：

現下，積體光路與矽光子逐漸成熟，但其於主動端的特性並不突出，異質整合技術與三五族半導體之主動元件並達到高能源效率愈發重要，其中光波導結構是所有半導體光電元件相當重要的一部份，擁有光與電的高侷限能力且低製作成本及簡易製程的波導是大家所追求的。故我們利用先進的概念，設計一高侷限之側向電流注入式薄膜式結構，並使用實驗室之間接貼合技術，以僅約 40nm 之 BCB 異質整合三五族與絕緣層覆矽。過去本實驗室已以此結構製作出小尺寸、高消光比之異質整合的電致吸收調變器，此特殊波導表現強量子侷限史塔克效應。在長度 180μm 下的波導，消光比可達一伏特 11dB，但側向電流注入與光場型態的表現並不傑出，須透

過製程手段改善。因此在本論文中，我們則以此設計概念，製作出高侷限之側向電流注入式薄膜雷射，在不犧牲被動層的光場佔比下，模擬主動層的光侷限可達傳統垂直注入式的 1.4 倍，於矽的光場佔比亦被大幅提升，增益提高拉升能源效率，未來若製作 DFB 雷射亦有效控制光柵耦合效率。我們亦製作 TLM 電極測試半導體與金屬接觸特性，使我們的電性顯著改善以利電流注入。製程上，我們優化了實驗室的間接貼合技術，使良率大幅提升，並能承受長時間高溫以利後續製程；而後以製程手段及選擇性底切蝕刻製作出我們的側向電流注入式結構，使電流良好侷限入主動區，並以低折射率材料 BCB 絕緣及包圍形成高侷限光波導，最後沉積共平面電極以

便與矽平台整合，完成元件製作。接著，我們量測電性並進行快速熱退火優化，檢測半導體與金屬接觸；接著量測電流與光功率關係，在連續波電流下，臨界電流分別在長度 1150µm 及 1350µm 長度時為 80mA 與 110mA，最大輸出功率為 0.77mW 與 0.7mW，亦檢測電致發光頻譜，以連續波呈現半導體雷射表現 (Lasing)。後續針對不同蝕刻包覆層深度的光波導進行光電流頻譜與偏壓相依穿透率量測，兩者消光比差異高達 6dB；同時進行遠場量測，結果與模擬之場形與發散角皆相對應，製作成功且證實此設計之可行性及此特殊波導的光侷限性。

光電工程概論(精裝本)

為了解決雷射種類的問題，作者孫慶成 這樣論述：

　　本書內容避免較艱深的數學計算，所觸及的學理與應用皆在當前光電科技中，扮演極為重要的角色。本書在光學上的著力較一般的書略多，內容涵蓋光學基礎，包括光學重要觀念、幾何光學、干涉光學，並詳細講解繞射光學及全像光學等。書中的九個章節可分成二大部分，其一是基礎光學，包括第一至三章與第七及第八章，其他的四章則為重要的光電科技簡介。 1 光電基礎概論1-1 光波傳遞1-2 光波的複數表示法1-3 海更斯理論1-4 光傳播速度1-5 光波之等相位面1-6 偏振1-7 費耐爾反射方程式1-8 光與物質的交互作用1-9 光電工程的學習路徑 2 幾何光學2-1 幾何光學基本原理2-2 基礎光學元件2-3 稜

鏡2-4 高斯光學2-5 近軸光追跡2-6 像差 3 波動光學3-1 光波的疊加3-2 光波之同調性3-3 雙光波之干涉3-4 多光波之干涉3-5 光學薄膜3-6 光學干涉儀(Interferometer)3-7 駐波與拍3-8 都卜勒效應 (The Doppler effect) 4 雷射光學與其應用4-1 量子理論4-2 雷射之基本條件4-3 雷射光之特性4-4 雷射種類4-5 雷射之應用 5 光電半導體元件5-1 半導體之特性5-2 發光二極體5-3 雷射二極體(Laser Diode，簡稱LD)5-4 半導體光偵測元件5-5 電荷耦合元件 6 光纖6-1 光纖的基本原理6-2 傳輸模態

6-3 光纖通信6-4 光纖檢測 7 繞射光學與全像術7-1 光波的繞射7-2 傅氏轉換7-3 線性與位移不變系統7-4 萊利－梭摩費爾德繞射理論7-5 費耐爾繞射與弗朗哈佛繞射7-6 空間頻率與繞射光場7-7 透鏡的傅氏轉換效應7-8 透鏡成像的繞射效應與繞射極限7-9 4f系統7-10 全像光學 8 晶體光學及其應用8-1 光波偏極化與偏極化元件8-2 非均向性介質8-3 電光效應8-4 聲光效應 9 LED固態照明光學9-1 LED固態照明簡介9-2 輻射光度學9-3 色彩評價9-4 四階光學設計 附中英對照表進階研讀書籍

奈秒脈衝雷射改質微生物燃料電池金屬電極之效益評估研究

為了解決雷射種類的問題，作者莊舜詠 這樣論述：

現今科技發展如此迅速，任何事物與科技皆有相關聯，但這些眼前美好的事物卻造成了日積月累的汙染，迫使自然環境開始劇烈變化，能源是一切發展的根本，大量的能源消耗造就了科技的急速進步，卻也造成了能源汙染，對此近年來世界各國開始積極地開發再生新能源。諸多再生新能源技術中，微生物燃料電池(Microbial fuel cell﹐MFC)具有低汙染、低成本並且可以同時處理廢水等優勢。 本研究提出了一個創新的結構表面改質方法，利用奈秒脈衝光纖雷射對不鏽鋼網進行表面改質加工，使其結構表面產生具微奈米結構的氧化層，以提升比表面積進而增加生物相容性。為了優化雷射加工改質的效益，針對雷射掃描速度與掃描間隔兩種

加工參數進行實驗規劃，並根據實驗結果找出最佳雷射加工參數。實驗結果證實，雷射加工不鏽鋼網陽極電極有助於提升微生物燃料電池產電效益，所有經改質陽極在實驗第三小時所測得之最大功率密度皆大於同時段未改質陽極，此外雷射加工參數為掃描速度5400 mm/s與掃描間隔0.03 mm的陽極電化學反應最為突出，最大功率密度達到19.54 mW/m2，與未改質3.89 mW/m2相比整體微生物燃料電池產電效率提升達5倍之多。