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以田口-灰關聯探討二氧化鈦應用於異質接面矽奈米線陣列最佳化之研究

為了解決電動釘槍缺點的問題，作者廖皓宇 這樣論述：

摘要...iAbstract...iii誌謝...v目錄...vi表目錄...x圖目錄...xiii第一章 緒論...11.1 前言...11.2 研究動機與目的...51.3 研究方法...91.4 論文架構...11第二章 基礎理論與文獻回顧...132.1 太陽能電池簡介...132.2 太陽能電池結構...142.2.1 基板...142.2.2 吸收層-P-N接面...152.2.3 抗反射層/窗口層...152.2.4 金屬電極...162.2.5 鈍化層...162.2.6 電子/電洞傳輸層...172.3 太陽能電池種類...182.3.1 單晶矽太陽能電池(Single C

rystalline Silicon Solar Cell, C-Si)...182.3.2 多晶矽太陽能電池(Poly Crystalline Silicon Solar Cell, Poly-Si)...192.3.3 非晶矽太陽能電池(Amorphous Silicon Solar Cell, A-Si)...192.3.4 化合物半導體太陽能電池(Compound Semiconductor Solar Cell)...202.3.5 有機太陽能電池(Organic Solar Cells)...202.3.6 無機太陽能電池(Inorganic Solar Cell)...212.4

太陽能電池基礎原理...222.5 太陽能電池的I-V曲線...242.6 太陽能電池的效率損耗...272.7 一維奈米結構(One-Dimensional Nanostructure)...292.7.1 矽奈米金字塔...292.7.2 矽奈米錐...302.7.3 矽奈米線...312.8 SiNW Arrays的製備方式...332.8.1 化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition, CVD)...332.8.2 無電鍍蝕刻法(Electroless Metal Deposition, EMD)...342.9 二氧化鈦(Titanium Dioxide,

TiO2)...362.9.1 二氧化鈦薄膜的製備方式...382.10 電漿(Plasma)...392.10.1 電漿的反應式...392.11 濺鍍(Sputtering)...402.11.1 磁控濺鍍(Magnetron Sputtering)...402.11.2 反應性濺鍍(Reactive Sputtering)...412.12 遲滯曲線(Hysteresis Curve)...432.13 田口法基礎理論介紹...452.13.1 參數設計(Parameter Design)...462.13.2 目標品質特性(Target Quality Characteristics

)...482.13.3 直交表(Orthogonal Arrays, OA)...482.13.4 信號雜音比(Signal to Noise Ratio, S/N)...492.13.5 變異數分析(Analysis of Variance, ANOVA)...512.14 灰關聯基礎理論介紹...522.15 矽奈米線、異質接面太陽能電池、磁控濺鍍、TiO2薄膜與AZO窗口層等相關文獻...54第三章 實驗方法與設備...643.1 實驗流程與步驟...653.1.1 矽晶圓基板前處理...663.1.2 EMD法製備SiNW Arrays...673.1.3 ZnO遲滯曲線繪製...6

93.1.4 以射頻磁控濺鍍製備TiO2-SiNW Arrays之特性要因圖分析...703.1.5 以田口-灰關聯法製備N-TiO2/P-SiNW Arrays...713.1.6 TiO2-SiNW Arrays太陽能電池電極製備...743.1.7 AZO窗口層於最佳化TiO2-SiNW Arrays之退火薄膜製備...753.2 分析設備介紹...773.2.1 掃描式電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope, SEM)...773.2.2 能量散射光譜分析儀(Energy Dispersive Spectrometer, EDS)...783.2.3 傅立

葉紅外線光譜儀(Fourier Transform Infrared Spectroscopy, FTIR)...783.2.4 X-ray繞射分析儀(X-ray Diffractometer, XRD)...793.2.5 化學分析電子能譜儀(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)...803.2.6 拉曼光譜儀(Raman Spectrometer, Raman)...813.2.7 分光光度計(UV-VIS Spectrophotometer, UV-VIS)...823.2.8 水滴接觸角(Water Contact An

gle, WCA)...833.2.9 太陽光模擬器(Solar Simulator)...843.2.10 高階三束型聚焦離子束顯微鏡(Focus Ion Beam Microscope, FIB)...853.2.11 場發射穿透式電子顯微鏡(Field Emission Transmission Electron Microscope, FE-TEM)...85第四章 實驗結果與討論...874.1 以EMD法製備SiNW Arrays...874.1.1 SiNW Arrays之表面形貌與截面形貌分析...874.1.2 SiNW Arrays之EDS元素分析...894.1.3 Si

NW Arrays之XRD結構分析...904.1.4 SiNW Arrays之Raman分析...914.1.5 SiNW Arrays之ESCA化學元素分析...924.1.6 SiNW Arrays之WCA分析...944.1.7 SiNW Arrays之UV-VIS分析...964.1.8 SiNW Arrays之FTIR分析...974.1.9 SiNW Arrays之TEM分析...994.2 ZnO遲滯曲線...1004.3 田口-灰關聯探討磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之最佳化參數...1024.3.1 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW A

rrays之田口單一品質反射率最佳化...1024.3.2 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之田口單一品質光電轉換效率最佳化...1064.3.3 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays多重品質最佳化...1104.4 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之表面形貌與截面形貌...1144.5 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之EDS元素分析...1204.6 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之XRD結構分析...1244.7 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW A

rrays之WCA分析...1264.8 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之FTIR分析...1284.9 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之ESCA化學元素分析...1304.10 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之TEM分析...1344.11 以磁控濺鍍法製備TiO2薄膜異質接面SiNW Arrays之暗電流I-V量測...138第五章 結論與未來展望...1395.1 結論...1395.2 未來展望...142參考文獻...143Extended Abstract...151

直流電動機驅動系統應用於電動鑽頭及釘槍的設計與製作

為了解決電動釘槍缺點的問題，作者許卜昇 這樣論述：

本文配合產業界的需求，研製電動鑽頭與釘槍的驅控系統。首先，探討電動鑽頭驅控系統的硬體及軟體研製，並提出新型的電流控制方法來改善傳統電動鑽頭的缺點。此外，利用比例-積分控制器來達成所需的電流控制。 其次，研製全數位化無轉速偵測元件的電動釘槍驅控系統。文中捨棄傳統的轉速偵測元件，只需測量直流電動機的電壓與電流，再配合轉速估測的技術，即可實現電動釘槍的閉迴路控制及驅動，達到低成本、省空間及提升機構設計方便性的目的。 文中以Microchip公司生產的微控制器PIC16F616作為電動鑽頭控制核心，來實現電流控制器的數學運算。並以微控制器PIC16F1823作為電動釘槍的控制核心，執行電流控制器

及轉速估測器的運算。實測結果與理論分析相互吻合，說明本文所提方法的可行性及正確性。