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METAL BUILD的問題，我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍，推薦Fabey, Michael寫的 Heavy Metal: The Hard Days and Nights of the Shipyard Workers Who Build America’’s Supercarriers 和Rosso, Josh,Lander, Rich,Brand, Alex的 Production Kubernetes: Building Successful Application Platforms都 可以從中找到所需的評價。
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這兩本書分別來自 和所出版 。
逢甲大學 材料科學與工程學系 梁辰睿所指導 黃冠諭的 應用自開發之程序控制系統於電漿電解氧化製程以探討氧化膜性能提升機制之研究 （2021），提出METAL BUILD關鍵因素是什麼，來自於多階段程序控制系統、微弧氧化技術(電漿電解氧化技術)、Mn: TiO2光觸媒、表面改質、製程優化。
而第二篇論文逢甲大學 商學博士學位學程 賴文祥所指導 范志旻的 利用模糊層級分析法 探討半導體產業品牌影響因素之分析 （2021），提出因為有 模糊層次分析法、半導體產業品牌、關鍵影響因素的重點而找出了 METAL BUILD的解答。
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Heavy Metal: The Hard Days and Nights of the Shipyard Workers Who Build America’’s Supercarriers
為了解決METAL BUILD 的問題，作者Fabey, Michael 這樣論述：
METAL BUILD進入發燒排行的影片
#YPちゃんねる #煉獄杏寿郎 #フィギュア #BLEACH #ドラゴンボール #シャーマンキング #人造人間17号 #人造人間18号 #クリリン
『あみあみ秋葉原ラジオ会館店』と
『TAMASHII NATIONS TOKYO』で展示していたフィギュアを撮影してきました
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應用自開發之程序控制系統於電漿電解氧化製程以探討氧化膜性能提升機制之研究
為了解決METAL BUILD 的問題，作者黃冠諭 這樣論述：
誌謝 I中文摘要 II英文摘要 IV目次 VI圖目次 X表目次 XVIIIChapter.1 前言 11.1 電漿電解氧化技術的發展背景 11.2 研究動機 4Chapter.2 電漿電解氧化處理 52.1 電漿電解氧化(PEO) 52.1.1 電漿電解氧化機制原理 62.1.2 膜層電擊穿機制 112.1.3 電漿電解氧化之電源參數影響 152.1.4 PEO製程的物理/化學反應機制 182.2 PEO氧化膜層特性 252.2.1 膜層的反應與形成機制 252.2.2 PEO處理中常見的基材金屬 292.3 PEO製程常見的電解
質成分 342.4 程序控制法 382.5 應用於Mn摻雜TiO2光催化劑薄膜 402.5.1 揮發性有機汙染物 402.5.2 光催化反應機制 412.5.3 Mott-Schottky方程 442.5.4 二氧化鈦光觸媒 462.5.5 二氧化鈦光觸媒的製備方法 512.5.6 提升二氧化鈦光觸媒光吸收效能之技術 542.6 應用於HA與L乳酸鈣於生醫改質氧化膜層 572.6.1 PEO於生醫改質之發展與應用 572.6.2 PEO生醫改質中常見的金屬植體 582.6.3 氫氧基磷灰石與L-乳酸鈣於生醫改質之用途 592.7 研究目的與實
驗規劃 61Chapter.3 程序控制法於PEO製程之應用 633.1 實驗方法 633.1.1 程序控制系統與設備 633.1.2 實驗設計 643.1.3 Mn: TiO2光催化劑實驗流程設計 683.1.4 以懸浮液搭配程序控制PEO製備TiO2膜層之流程設計 713.1.5 以離子溶液液搭配程序控制PEO製備TiO2膜層之流程設計 743.2 實驗基材選用與藥品準備 773.3 程序控制法於PEO製程基本分析 793.3.1 電源系統監控分析 793.3.2 膜層表面形貌與成分分析 793.3.3 孔徑與孔隙率分析 793.3.4
晶體結構相組成分析 803.3.5 紫外光－可見光吸收光譜分析 813.3.6 載子濃度分析 813.3.7 X射線光電子能譜分析 823.3.8 懸浮微粒之粒徑大小分析 83Chapter.4 多階段程序控制於PEO處理製備摻雜Mn: TiO2光催化劑 844.1 Mn: TiO2光催化劑特性探討 844.1.1 第一步驟製程設計對二氧化鈦膜層影響 844.1.2 不同含浸濃度錳離子對於二氧化鈦特性比較 904.1.3 不同電源模式含錳離子之二氧化鈦特性差異 1034.1.4 含浸法對錳離子含量之影響與離子機制之探討 1144.2 光觸媒催化效能測
試 119Chapter.5 以懸浮液搭配多階段程序控制PEO進行TiO2膜層製備 1215.1 HA於多階段程序控制PEO之影響 1215.1.1 單階段程序控制於PEO膜層特性之探討 1215.1.2 雙階段程序控制於PEO膜層特性之探討 1225.1.3 多階段程序控制於PEO膜層特性之探討 1295.2 HA於增加陽極氧化前處理之影響 1415.2.1 陽極處理膜層之特性探討 1415.2.2 陽極處理－多階段程序控制PEO膜層特性探討 142Chapter.6 以離子溶液搭配多階段程序控制PEO進行TiO2膜層製備 1626.1 電解液A於PE
O不同階段製程之膜層特性探討 1626.1.1 電解液A之乳酸鈣於雙階段PEO製程影響 1626.1.2 電解液A之乳酸鈣於三階段PEO製程影響 1706.2 電解液B於PEO不同階段製程之膜層特性探討 1736.2.1 電解液B之乳酸鈣於雙階段PEO製程影響 1736.2.2 電解液B之乳酸鈣於三階段PEO製程影響 182Chapter.7 結論與未來展望 1917.1 結論 1917.2 未來展望 192參考文獻 193
Production Kubernetes: Building Successful Application Platforms
為了解決METAL BUILD 的問題，作者Rosso, Josh,Lander, Rich,Brand, Alex 這樣論述：
Josh Rosso has been working with organizations to adopt Kubernetes since version 1.2 (2016). During which he’s worked as an engineer and architect at CoreOS (RedHat), Heptio, and now VMware. He’s been involved in architecture and engineering to help build compute platforms in financial institutions,
establish edge compute to support 5g, and much more. Environments have ranged from enterprise-managed bare metal, to cloud-provider managed virtual machines.Rich Lander was an early adopter of Docker and began running production workloads using containers in 2015. He learned the value of container
orchestration the hard way and was running production applications on Kubernetes by version 1.3. Rich took that experience and subsequently worked at CoreOS (RedHat), Heptio and VMware as a field engineer helping enterprises in manufacturing, retail and various other industries adopt Kubernetes and
cloud native technologies.Alex Brand started working with Kubernetes in 2016, when he helped build one of the first open source Kubernetes installers at Apprenda. Since then, Alex has worked at Heptio and VMware, designing and building Kubernetes-based platforms for organizations across multiple ind
ustry verticals, including finance, healthcare, consumer, and more. As a software engineer at heart, Alex has also contributed to Kubernetes and other open source projects in the Cloud Native ecosystem.John Harris has been working with Docker since 2014, consulting with many of the top Fortune 50 co
mpanies to help them successfully adopt container technologies and patterns. He brings experience in cloud-native architecture, engineering and DevOps practises to help companies of all sizes build robust Kubernetes platforms and applications. Prior to working at VMware (via Heptio), he was an archi
tect at Docker advising some of their most strategic customers.
利用模糊層級分析法 探討半導體產業品牌影響因素之分析
為了解決METAL BUILD 的問題，作者范志旻 這樣論述：
隨著時間的流逝，半導體創新正在發生變化，可以適用於不同的創新業務，半導體業務的發展至關重要，因而開闢了許多新的職位。半導體業務是一個融合了不同創新能力並協調上游，中途和下游提供商的專業能力的行業，並且通常具有較高的進入壁壘 。廠家已投入花費很多精力與成本進入這個行業，期盼永續經營與回饋利害關係人。本研究第一步採用PEST, 五力 & SWOT分析，在美國，日本和臺灣，這些是國際半導體供應商鏈中的關鍵成員。經過最新半導體有關文獻的討論和分析，發現現有廠商已經建立了行業品牌，並獲得了用戶的信任。因此，品牌研究在這個行業是大家一直在探索的領域。考慮到寫作對話和大師談話，本研究使用分析層次結構(A
HP)研究技術對品牌的關鍵指針在半導體品牌的關鍵部件上進行重要性的排序，然後利用模糊層次分析法(FAHP)來分析這些標記之間的聯繫。經調查，有11項顯著結果可供參考，關鍵是要在半導體品牌建設上取得優異的成績，“客戶價值”和“品牌資產”都必須達到一定的水平。本研究發現，半導體品牌策略應以“客戶價值”為核心，解決客戶問題，創造卓越價值，並隨著技術的進步不斷投入新產品的研發，以奠定半導體品牌長期成功的基礎。