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國立臺灣科技大學 化學工程系 王孟菊所指導 林志豪的 製備含奈米金屬粒子之電漿聚合正庚胺薄膜並應用於抗菌測試及化學鍍銅 （2014），提出rv180 abs停產關鍵因素是什麼，來自於電漿聚合、含胺基薄膜、奈米銀粒子、抗菌測試、無電鍍銅。

而第二篇論文弘光科技大學 環境工程研究所 黃文鑑所指導 賴佳宏的 A2O生物處理程序對廢水中氨氮及TMAH 去除效率之研究 （2014），提出因為有 氨氮、氫氧化四甲基銨、A2O反應槽、厭氧、缺氧、好氧的重點而找出了 rv180 abs停產的解答。

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製備含奈米金屬粒子之電漿聚合正庚胺薄膜並應用於抗菌測試及化學鍍銅

為了解決rv180 abs停產的問題，作者林志豪 這樣論述：

本論文利用低壓電漿聚合技術製備含胺基之薄膜，並直接使金屬離子螯合於薄膜，進而還原成金屬奈米粒子；利用此種製程，可製備具抗菌效果的複合薄膜並可應用於化學鍍銅程序，省略敏化及活化步驟，直接將此高分子金屬複合薄膜作為化學鍍銅的材料。在製備電漿聚合正庚胺薄膜實驗中，本研究以橢圓偏光儀定量分析了薄膜厚度並得到在實驗參數（電漿聚合操作壓力：200 mTorr，使用功率： 40 W，前驅物加熱溫度： 40 ˚C）下的沉積速率約為4 nm/min；以ATR-FTIR分析薄膜表面的化學鍵結組成可以在沉積時間5分鐘至90分鐘下製備出之正庚胺薄膜皆具胺官能基訊號。　　在以硼氫化鈉以及熱還原兩種方法製備正庚胺＠銀後

，以掃描式電子顯微鏡可以觀察到電漿聚合正庚胺薄膜表面具有均勻分布的奈米銀粒。在以此二種還原方法製備之複合薄膜中皆可觀察到在電漿沉積時間較短的薄膜表面具有粒徑約50奈米之銀粒子；在電漿沉積較長的薄膜表面具有粒徑約20~30奈米之銀粒子。　　在光學密度式抗菌測試結果中，正庚胺＠銀複合薄膜的抑菌能力明顯優於未處理之電漿聚合正庚胺薄膜。其中，使用以硼氫化鈉還原法製備之正庚胺@銀複合薄膜抑制大腸桿菌時抑制率可達70.1 %；抑制金黃色葡萄球菌之抑制率可達68.2 %；以熱還原法製備之正庚胺@銀複合薄膜抑制大腸桿菌時抑制率可達70.3 %；抑制金黃色葡萄球菌之抑制率可達28.2 %。　　在以正庚胺@銀複合

薄膜作為化學鍍銅基材之實驗中，可以直接以複合薄膜作為以活化表面之基材並成功於表面製備出銅層，以四點探針分析銅層電學性質，可以得到與金屬銅非常相近之導電度；亦可以利用固體膜具製造出具有形狀排列之銅層。

A2O生物處理程序對廢水中氨氮及TMAH 去除效率之研究

為了解決rv180 abs停產的問題，作者賴佳宏 這樣論述：

高科技產業製程所產生之廢水中，常含有氨氮 ( NH3-N ) 及有機氮汙染物，其中後者包括具腐蝕性及神經毒性之氫氧化四甲基銨( Tetramethylammonium Hydroxide, TMAH )。本研究針對水中之氨氮及TMAH嘗試以厭氧-缺氧-好氧生物處理程序 ( Anaerobic - Anoxic - Aerobic bioprocess, 簡稱A2O ) 探討處理效率，研究氨氮及TMAH同時存在水體時，去除率之影響。實驗方法是利用設置小型A2O模型廠，以人工原水配製方式，控制氨氮及TMAH進流濃度、容積負荷、汙泥停留時間及內循環迴流比等操作參數，試驗去除氨氮及TMAH之較佳條件

。結果顯示在進流氨氮及TMAH濃度分別控制在200 mg/L及20 mg/L濃度，放流水TMAH之去除率可達87.5%，氨氮則可達80%。針對缺氧槽之脫硝作用，發現在氨氮200 mg/L及TMAH 20 mg/L時，仍有部分TMAH氨化後之氨氮及硝化後之硝酸鹽及亞硝酸鹽累積於反應槽內，尤其是在厭氧槽及缺氧槽內。當提高TMAH濃度後 ( 氨氮100 mg/L及TMAH 200mg/L )，對氨氮去除率僅剩下20%，但TMAH還是維持很高的去除效率 ( 約98% )，判斷係因為硝化菌會優先利用TMAH進行硝化作用，造成氨氮去除率下降。當氨氮100 mg/L及TMAH 200mg/L時，此現象更具明

顯，證明TMAH確實會抑制脫硝菌進行脫硝作用，同時TMAH經好氧槽氨化或硝化作用可能生成之含氮副產物，仍然殘留在缺氧槽及厭氧槽，顯示TMAH並未在A2O處理程序中被分解完全。

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