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應用二維地電阻法推估蘭陽平原扇頂地區淺層地下水位面於乾溼季的變化量及比出水率

為了解決10w 30 10w 40 比較的問題，作者謝孟勳 這樣論述：

蘭陽平原位於台灣東北部，東鄰太平洋，西側與南側接雪山山脈及中央山脈。本研究地區位於蘭陽溪至羅東溪之間－大隱地區，此區位於扇頂補注區的礫石層範圍內，在水文地質方面，屬於非拘限含水層分布區域，適合地下水區。為了瞭解蘭陽平原大隱地區之地下水文特性，遂利用二維地電阻法(Electrical Resistivity Imaging, ERI/ Electrical Resistivity Tomography, ERT)調查並計算淺層地下水位深度及比出水率隨季節之變化情形。在研究區域內，每次布設十條二維地電阻測線，並於測區內之大隱地下水觀測井附近進行試驗，以利進行推估地下水位面之比較，而後將調查所得電

阻率資料帶入Archie’s Law 轉換成相對含水量，並藉由van Genuchten與Brooks-Corey保水曲線推估地下水位深度，以及利用飽和及殘餘含水量計算比出水率，最後將所得結果繪製成地下水位高程分布圖。本研究區域其比出水率約0.06至0.15之間，並發現地下水位由西南向東北遞減趨勢，與羅東溪流向大致一致，推測本區分別受到山區及河流補注影響。最後，比較兩種保水曲線模型推估結果，以van Genuchten模型較為接近真實地下水位面。

濺鍍沉積五氧化二釩摻雜鈷對電致變色特性之影響

為了解決10w 30 10w 40 比較的問題，作者林俞呈 這樣論述：

本研究主要是透過摻雜鈷於五氧化二釩薄膜中，藉以改善其電致變色的性能，實驗的試片是在真空的環境下，透過RF濺鍍製備而成，基材採用ITO玻璃，然後於基材上沉積氧化釩薄膜，另外研究進行共濺鍍法沉積摻鈷之氧化釩薄膜，透過改變濺鍍時的摻雜功率、基板溫度、含氧流量、沉積時間還有溫度退火等等，探討不同濺鍍條件對薄膜電致變色性能的影響，藉由循環伏安分析(CV)、X光繞射分析(XRD)、電子顯微鏡(SEM)、光電化學同步量測系統(SEMSO-3000)以及歐傑電子能譜儀，以上述各項實驗來進行分析與討論，探討摻鈷之氧化釩薄膜的光學性質、組成分析與電致變色性能。 藉由實驗分析的數據顯示出，摻雜鈷之五

氧化二釩的結果，以摻雜20 W為佳，且濺鍍環境條件要處在不加溫(基板)，腔體氧含量為9.1 %(1:10)，進行3hr的沉積時間，此條件下的膜厚為88.56nm，薄膜在循環伏安的實驗中，其曲線呈現出明顯的氧化峰與還原峰，經過積分換算後其電容量為57.92F，而氧化態與還原態之光穿透率差(∆T)在可見光的三個波長中(550nm、600nm、650nm)分別為13.9 %、16.2 %、19.2 %。 經由實驗分析得知，五氧化二釩以摻雜20 W的鈷之條件去做不同氧含量的實驗，分別有4.76%、6.25 %、9.1 %、16.67 %、以上四種條件，得出其膜厚依序為107.7 nm、99.96

nm、95.95 nm、82.85 nm，在循環伏安實驗中，除了含氧量16.67% 的條件，其他三個條件所呈現出的曲線，才有明顯的氧化峰與還原峰，電容量在四個條件中以4.76 %的條件為佳，其值為76.25F，但光的穿透率差以含氧量9.1 % 的條件為最佳，其可見光段650nm穿透率差值達18.6 % 。 以不同的沉積時間做為比較，從實驗結果得知沉積4 hr的膜厚達到128.1 nm，其電容量值明顯比其他濺鍍沉積時間條件的薄膜要來的高，但是在可見光的三波長下，氧化態與還原態的穿透率差比3 hr的差，且變色範圍也處在比較低的穿透率，從上述比較得知雖然沉積時間越久，膜厚及電容量值會越高，但

因為是雙極變色材料，故反而使變色性能下降。 使用第1個實驗中的基板未加溫且摻雜為10 W條件及20 W條件的摻鈷之五氧化二釩薄膜進行1hr退火實驗後，在10W的條件下250oC與350oC退火產生結晶結構，而摻鈷10W條件薄膜在退火150oC後，其變色性能高於未退火前的薄膜，也是所有退火條件中最好的，而其氧化態與還原態之光穿透率差(∆T)在可見光的三個波長中(550 nm、600 nm、650 nm)分別為10.127%、13.992%、18.499%。